特許
J-GLOBAL ID：201303007103153924
載置台温度制御装置及び基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大山 浩明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-158950
公開番号（公開出願番号）：特開2013-026387
出願日： 2011年07月20日
公開日（公表日）： 2013年02月04日
要約：
【課題】載置台の面内全体の設定温度に対して面内の所望部位だけを局部的に設定温度よりも高くしたり,低くしたりする。【解決手段】載置台200内にその面内全体に渡って形成した主流路320と,載置台内に主流路の上側に離間して載置台の面内一部に形成した補助流路330と,所定の設定温度に調整した温調媒体を主流路に供給し循環させるとともに,その温調媒体を分流させて,さらに前記設定温度より高い温度又は低い温度に調整した上で補助流路に供給し循環させる温調媒体循環機構とを設けた。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板を載置する載置台の温度を制御する載置台温度制御装置であって,
前記載置台内にその面内全体に渡って形成した主流路と,
前記載置台内に前記主流路の上側に離間して前記載置台の面内一部に形成した補助流路と,
所定の設定温度に調整した温調媒体を前記主流路に供給し循環させるとともに,その温調媒体を分流させて,さらに前記設定温度より高い温度又は低い温度に調整した上で前記補助流路に供給し循環させる温調媒体循環機構と,
を備えたことを特徴とする載置台温度制御装置。
IPC (3件)：
H01L 21/306
, H01L 21/31
, C23C 16/46
H01L21/302 101G
, H01L21/31 F
, C23C16/46
4K030CA04
, 4K030CA06
, 4K030CA12
, 4K030FA03
, 4K030KA23
, 4K030LA15
, 4K030LA16
, 4K030LA18
, 5F004AA01
, 5F004BB22
, 5F004BB25
, 5F045EJ02
, 5F045EJ09
, 5F045EM05
