特許
J-GLOBAL ID：200903012109572024
プラズマ処理装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-020305
公開番号（公開出願番号）：特開2008-187063
出願日： 2007年01月31日
公開日（公表日）： 2008年08月14日
要約：
【課題】 試料台またはその上に配置された試料の温度を広い範囲で短時間に変化させ処理の効率を向上させたプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 真空排気手段を有する真空容器内に配置された処理室と、この処理室内に配置されその上部の載置面に処理対象の試料が載置される試料台と、この処理室内に処理用のガスを供給する供給手段と、この試料台内部に配置され内部を通流する冷媒が蒸発する複数の冷媒流路と、圧縮機と凝縮器と膨張弁と前記複数の冷媒通路とをこの順で管路により連結して構成された冷凍サイクルとを備えて前記試料台の温度を調節しつつ前記試料をプラズマを用いて処理するプラズマ処理装置であって、前記複数の冷媒流路の異なる流路に選択的に前記冷媒を通流させて前記試料台の冷却を調節する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
真空排気手段を有する真空容器内に配置された処理室と、この処理室内に配置されその上部の載置面に処理対象の試料が載置される試料台と、この処理室内に処理用のガスを供給する供給手段と、この試料台内部に配置され内部を通流する冷媒が蒸発する複数の冷媒流路と、圧縮機と凝縮器と膨張弁と前記複数の冷媒通路とをこの順で管路により連結して構成された冷凍サイクルとを備えて前記試料台の温度を調節しつつ前記試料をプラズマを用いて処理するプラズマ処理装置であって、
前記複数の冷媒流路の異なる流路に選択的に前記冷媒を通流させて前記試料台の冷却を調節するプラズマ処理装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (19件)：
5F004AA01
, 5F004BA04
, 5F004BA09
, 5F004BA20
, 5F004BB11
, 5F004BB25
, 5F004BB26
, 5F004BB28
, 5F004BB29
, 5F004BC03
, 5F004BD01
, 5F004BD03
, 5F004BD04
, 5F004BD05
, 5F004BD06
, 5F004CA04
, 5F004CA08
, 5F004CB12
, 5F004EB03
出願人引用 (2件)
-
プラズマ装置およびその運転方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願平5-160375
出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社
-
プラズマ処理装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2004-284368
出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日立ハイテクノロジーズ
審査官引用 (2件)
前のページに戻る
