特許
J-GLOBAL ID:201303008085120009

ウェハの角度及びファラデーのアラインメント検査機構を有するイオン注入装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 園田 吉隆 ,  小林 義教 ,  長谷川 芳樹 ,  山田 行一
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-312406
公開番号(公開出願番号):特開2001-229873
特許番号:特許第4917705号
出願日: 2000年10月12日
公開日(公表日): 2001年08月24日
請求項(抜粋):
【請求項1】 イオン注入装置であって、 排気可能な注入室と、 注入されるイオン源と、 半導体ウェハにイオン注入するために、前記注入室内で前記イオンの平行な走査ビームを生成する走査装置とコリメータとの組み合わせ装置であって、注入室内に前記平行な走査イオンビームの理想中心線を形成する前記走査装置とコリメータとの組み合わせ装置と、 伝送線に沿って放射ビームを向ける電磁放射源であって、前記理想のビーム中心線を基準とするように取付けられているので前記伝送線が前記理想のビーム中心線を基準とする電磁放射源と、 走査ビームを受容するビームストップであって、ビームストップの固定ビーム検出装置を走査するイオンビームのタイミングを表示するタイミング信号を供給する固定ビーム検出装置を少なくとも一つ含む前記ビームストップと、 前記ビームストップと前記固定ビーム検出装置の位置とを基準にするように前記伝送線上に取付けられているインラインセンサとを備え、前記電磁放射源が、前記インラインセンサ上に放射の照射スポットを供給し、前記インラインセンサが、少なくとも前記ビーム走査方向に平行な方向に感知領域上の前記照射スポットの位置を示す信号を供給する感知領域を有し、これにより、前記固定ビーム検出装置の位置を、前記伝送線と前記理想中心線を基準として判定することができる、 イオン注入装置。
IPC (3件):
H01J 37/317 ( 200 6.01) ,  C23C 14/48 ( 200 6.01) ,  H01L 21/265 ( 200 6.01)
FI (5件):
H01J 37/317 C ,  H01J 37/317 B ,  C23C 14/48 B ,  H01L 21/265 T ,  H01L 21/265 603 D
引用特許:
審査官引用 (8件)
  • 特開平4-209523
  • 特開平4-209523
  • 試料像測定装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-106818   出願人:株式会社日立製作所
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