枚葉式処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：絹谷信雄 , 金坂憲幸
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-149208
公開番号（公開出願番号）：特開2001-332465
特許番号：特許第4744671号
出願日： 2000年05月22日
公開日（公表日）： 2001年11月30日
請求項（抜粋）：

【請求項1】処理容器内に被処理体を載置する電気絶縁性の載置台を備えた枚葉式処理装置において、前記載置台の表面に、帯電した静電気を逃がすための導電性被膜を形成し、前記載置台が金属製の処理容器内の底部に立設された電気絶縁性の支柱を有し、この支柱の表面にも導電性被膜が形成され、前記載置台に帯電した静電気を支柱の表面の導電性被膜を通じて処理容器に逃すように構成されていることを特徴とする枚葉式処理装置。

IPC (8件)：

H01L 21/02 ( 200 6.01) , H01L 21/205 ( 200 6.01) , H01L 21/22 ( 200 6.01) , H01L 21/324 ( 200 6.01) , H01L 21/683 ( 200 6.01) , C23C 16/458 ( 200 6.01) , G21K 5/00 ( 200 6.01) , H05H 1/46 ( 200 6.01)

FI (8件)：

H01L 21/02 Z , H01L 21/205 , H01L 21/22 511 G , H01L 21/324 Q , H01L 21/68 N , C23C 16/458 , G21K 5/00 Z , H05H 1/46 A

引用特許：

出願人引用 (4件)

基板の支持装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-263962 出願人：東京エレクトロン株式会社
ウェハ用真空チャック
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-030567 出願人：住友金属工業株式会社
物品保持装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-043868 出願人：京セラ株式会社

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審査官引用 (4件)

投写装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-097174 出願人：株式会社富士通ゼネラル
物品保持装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-043868 出願人：京セラ株式会社
ウェハ用真空チャック
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-030567 出願人：住友金属工業株式会社

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