フォトレジストのUV支援による化学的修飾

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：宮崎昭夫 , 石橋政幸
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-368421
公開番号（公開出願番号）：特開2001-176795
特許番号：特許第4805448号
出願日： 2000年12月04日
公開日（公表日）： 2001年06月29日
請求項（抜粋）：

【請求項1】露光され現像されたフォトレジスト・フィーチャを改変するための方法であって、現像されたフォトレジスト・フィーチャを少なくとも1つの化合物にさらすこと、ここで該化合物はその化合物自身と反応する自己重合する化合物で、該反応は前記フォトレジストの少なくとも1成分の存在下で起こり、並びに現像されたフォトレジスト・フィーチャを少なくとも1つの前記化合物にさらす前、さらすと同時、およびさらした後からなる群から選ばれた少なくとも一つの時期に、前記フォトレジスト・フィーチャを反応開始エネルギーにさらすことを含む方法。

IPC (2件)：