特許
J-GLOBAL ID：201303009884033352
光走査装置及びレーザ加工装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人 有古特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-075830
公開番号（公開出願番号）：特開2013-205685
出願日： 2012年03月29日
公開日（公表日）： 2013年10月07日
要約：
【課題】 レーザ光の入射角を極力垂直にし、レーザ光を極力合焦させ続けながら、レーザ光の走査速度を極力等速にする。 【解決手段】 光走査装置13が、入射したレーザ光を投光中心C回りに角移動させながら放射する投光手段30と、投光手段30からのレーザ光を反射して落射する放物面32aを有する反射手段32とを備える。投光中心Cは、放物面32aの焦点Fに配置される。投光手段30は、レーザ光の回転角が放物面32aの頂点Vで反射するときの回転角である基準角から離れているほどレーザ光の角速度が小さくなるように、レーザ光を放射する。レーザ加工装置10は、該光走査装置13を備え、反射手段32からレーザ光をワーク90に落射し、該ワーク90に加工ライン93を形成する。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
レーザ光を投光中心周りに角移動させながら放射する投光手段と、
前記投光手段からのレーザ光を反射して落射する放物面を有する反射手段と、を備え、
前記投光中心が、前記放物面の焦点に配置され、
前記投光手段は、レーザ光の回転角が前記放物面の頂点で反射するときの回転角である基準角から離れているほどレーザ光の角速度が小さくなるように、レーザ光を非等速で角移動させながら放射する、光走査装置。
IPC (3件)：
G02B 26/12
, B23K 26/08
, H01L 31/04
G02B26/10 102
, B23K26/08 B
, H01L31/04 S
2H045AA01
, 2H045CA62
, 4E068AD00
, 4E068CB08
, 4E068CD12
, 4E068CE03
, 4E068CE04
, 4E068DA09
, 5F151EA16
