特許
J-GLOBAL ID:201303011303268510
荷電粒子によるエネルギー付与用ノズルの製造方法、エネルギー付与用ノズル、エネルギー付与装置、および荷電粒子照射強度計測システム
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
河野 広明
, 岡本 正之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-161568
公開番号(公開出願番号):特開2013-022336
出願日: 2011年07月25日
公開日(公表日): 2013年02月04日
要約:
【課題】 陽子ビーム等のマイクロビームの照射強度を照射しながら測定する。【解決手段】 本発明のある態様においては、内部に通路102をなす側壁106と、通路102の一端104Tまたはその近傍にて通路102を塞ぐように配置され、荷電粒子の透過に応じてシンチレーション光を発するシンチレーターを含む先端壁108とを備えるエネルギー付与用ノズル100が提供される。典型的には、その先端壁108は、シンチレーターを含む微粒子112を融解または軟化して形成される。【選択図】図4
請求項(抜粋):
内部に通路をなす筒状または管状の側壁を形成する工程と、
荷電粒子の透過に応じてシンチレーション光を発するシンチレーターを含む材質の微粒子を、前記側壁の表面のうち、前記通路の一端または該一端の近傍の領域に付着させる工程と、
前記微粒子の材質を少なくとも一時的に融解または軟化させることにより、前記微粒子の材質を含む先端壁により、前記一端または該一端の近傍にて前記通路を塞ぐ先端壁形成工程と
を含む
エネルギー付与用ノズルの製造方法。
IPC (1件):
FI (3件):
A61N5/10 Q
, A61N5/10 H
, A61N5/10 N
Fターム (5件):
4C082AC05
, 4C082AG02
, 4C082AG06
, 4C082AG26
, 4C082AG41
引用特許:
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