特許
J-GLOBAL ID：201303015989533342
チャンバ装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
酒井 宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-107377
公開番号（公開出願番号）：特開2013-084892
出願日： 2012年05月09日
公開日（公表日）： 2013年05月09日
要約：
【課題】チャンバ内に配置された要素の特性や性能が劣化することを抑制する。【解決手段】チャンバ装置は、レーザ装置および前記レーザ装置から出力されるレーザ光を集光するための集光光学系と共に用いられるチャンバ装置であって、レーザ装置から出力されたレーザ光を通過させる入射口が設けられたチャンバと、チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するように構成されたターゲット供給部と、チャンバ内でターゲット物質にレーザ光が照射することで発生したターゲット物質のデブリを付着させるデブリ入射面を含む回収部と、回収部から流出したデブリを回収する回収容器とを備え、デブリ入射面は、前記デブリが入射する方向に対して垂直でない方向に傾いていてもよい。【選択図】図22
請求項（抜粋）：
レーザ装置および前記レーザ装置から出力されるレーザ光を集光するための集光光学系と共に用いられるチャンバ装置であって、
前記レーザ装置から出力されたレーザ光を通過させる入射口が設けられたチャンバと、
前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するように構成されたターゲット供給部と、
前記チャンバ内で前記ターゲット物質にレーザ光が照射することで発生した前記ターゲット物質のデブリを付着させるデブリ入射面を含む回収部と、
前記回収部から流出したデブリを回収する回収容器とを備え、
前記デブリ入射面は、前記デブリが入射する方向に対して垂直でない方向に傾いている、
チャンバ装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 531S
, H05G1/00 K
4C092AA06
, 4C092AA15
, 4C092AC09
, 4C092BD01
, 4C092BD17
, 4C092BD18
, 5F146GA21
, 5F146GC12
審査官引用 (3件)
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極端紫外光光源装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2009-289775
出願人：株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社
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極端紫外光光源装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2010-028192
出願人：株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社
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極端紫外光源装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2008-059179
出願人：株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社
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