極端紫外光光源装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：酒井宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-289775
公開番号（公開出願番号）：特開2010-171405
出願日： 2009年12月21日
公開日（公表日）： 2010年08月05日
要約：

【課題】イオン回収装置のイオン衝突面および/またはイオン衝突面に堆積した物質のスパッタリングによる再拡散を防止することができる極端紫外光光源装置を提供する。【解決手段】ターゲットである溶融SnのドロップレットDにレーザ光を照射してプラズマを生成し該プラズマから極端紫外光を発生し、この極端紫外光の発生とともに生成されるイオンの流れ方向を磁場または電場によって制御する極端紫外光光源装置において、前記イオンを回収するイオン回収筒20を設け、イオン回収筒20のイオン衝突面Sa,Sbに、前記イオンによるスパッタ率が1原子/イオン未満となる金属であるSiを配置またはコートする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

ターゲットにレーザ光を照射してプラズマを生成し該プラズマから極端紫外光を発生し、この極端紫外光の発生とともに生成されるイオンの流れ方向を磁場または電場によって制御する極端紫外光光源装置において、イオン衝突面に前記イオンによるスパッタ率が1原子/イオン未満となる金属が配置またはコートされた、前記イオンを回収するイオン回収装置を備えたことを特徴とする極端紫外光光源装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , H05G 2/00

FI (2件)：

H01L21/30 531S , H05G1/00 K

Fターム (16件)：

4C092AA06 , 4C092AA10 , 4C092AA14 , 4C092AA15 , 4C092AA17 , 4C092AB30 , 4C092AC09 , 4C092BD05 , 4C092BD06 , 4C092BD17 , 4C092BD18 , 4C092BD19 , 5F046GA09 , 5F046GB07 , 5F046GB09 , 5F046GC03

引用特許：

審査官引用 (14件)

極端紫外光源装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-097037 出願人：株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社
極限紫外リソグラフィー装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-333642 出願人：ティーアールダブリュー・インコーポレーテッド
リソグラフィ装置、システムおよびデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-344963 出願人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ., カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー

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