特許
J-GLOBAL ID：201303018945242412
リソグラフィ装置、基板テーブルを変形させる方法、及びデバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森下 賢樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-134491
公開番号（公開出願番号）：特開2013-004979
出願日： 2012年06月14日
公開日（公表日）： 2013年01月07日
要約：
【課題】例えば、リソグラフィ装置の基板テーブルの制御を更に改善する。【解決手段】リソグラフィ装置は、投影系、基板テーブル、複数のセンサ、少なくとも1つのアクチュエータ、及びコントローラを備える。投影系は、パターンが与えられた放射ビームを基板に投影するためにある。基板テーブルは、基板を支持し、投影系に対し移動するよう構成されている。複数のセンサは、基板テーブルの変形を測定するよう構成されている。少なくとも1つのアクチュエータは、基板テーブルを変形させるよう構成されている。コントローラは、センサにより行われた測定に基づいて基板テーブルを変形させるように、アクチュエータを制御するよう構成されている。複数のセンサは、投影系に対向する基板テーブルの第2の片側とは反対の基板テーブルの第1の片側に配置されている。複数のセンサは、投影系に対し実質的に静止している。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
パターンが与えられた放射ビームを基板に投影するための投影系と、
基板を支持し、投影系に対し移動するよう構成されている基板テーブルと、
基板テーブルの変形を測定するための複数のセンサと、
基板テーブルを変形させるための少なくとも1つのアクチュエータと、
前記複数のセンサにより行われた測定に基づいて基板テーブルを変形させるように前記アクチュエータを制御するコントローラと、を備え、
前記複数のセンサは、投影系に対向する基板テーブルの第2の片側とは反対の基板テーブルの第1の片側に配置されており、
前記複数のセンサは、投影系に対し実質的に静止している、リソグラフィ装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20
, H01L 21/68
H01L21/30 515G
, H01L21/30 503A
, G03F7/20 521
, H01L21/68 K
5F131AA02
, 5F131BA13
, 5F131CA08
, 5F131DD43
, 5F131DD76
, 5F131EA02
, 5F131EA10
, 5F131EA13
, 5F131EA14
, 5F131EA16
, 5F131EA22
, 5F131EA23
, 5F131EB79
, 5F131FA17
, 5F131KA16
, 5F131KA34
, 5F131KB07
, 5F131KB54
, 5F131KB56
, 5F131KB58
, 5F146CC01
, 5F146CC03
, 5F146CC04
, 5F146CC13
, 5F146DA05
, 5F146DB04
, 5F146DC12
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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