特許
J-GLOBAL ID：201303019376103715
シロキサン系硬化膜の製造方法
発明者：
,
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出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
辻居 幸一
, 熊倉 禎男
, 箱田 篤
, 浅井 賢治
, 山崎 一夫
, 市川 さつき
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-018662
公開番号（公開出願番号）：特開2013-154324
出願日： 2012年01月31日
公開日（公表日）： 2013年08月15日
要約：
【課題】優れた耐擦傷性を有するシロキサン系コーティング膜の製造方法を提供する。【解決手段】シロキサンオリゴマー、有機溶剤及び活性エネルギー線感応性酸発生剤を含有する、活性エネルギー線硬化性組成物Bを基材Cの表面Aに塗布して薄膜を形成し、前記薄膜中の溶剤を乾燥し、次いで、薄膜に活性エネルギー線を照射することにより、シロキサン硬化膜を得る方法であって、前記乾燥工程において、基材Cの表面及び内部温度を特定の条件を満たすようにコントロールして乾燥させることを特徴とする方法により、優れた耐擦傷性を有するシロキサン系コーティング膜を製造しうる。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(1)シロキサンオリゴマー、有機溶剤及び活性エネルギー線感応性酸発生剤を含有する、活性エネルギー線硬化性組成物Bを基材Cの表面Aに塗布して薄膜を形成する工程と、
(2)前記薄膜中の溶剤を乾燥させる処理工程と、
(3)次いで、薄膜に活性エネルギー線を照射することにより、硬化性組成物Bを硬化させてシロキサン硬化膜を得る工程
とを含む、シロキサン硬化膜の形成方法であって、前記工程(2)において、25°Cとした基材Cのみを乾燥炉に投入した場合において表面Aの温度をt1、表面Aから垂直に基材Cの内部方向へ10μm離れた地点の温度をt2として、t1が28°Cに到達した後の時間が20秒〜150秒の範囲にわたって、下記式(i)を満たす条件にて、乾燥させる処理を行う、シロキサン硬化膜の形成方法。
(t1-t2) > 5 (i)
IPC (2件)：
FI (2件)：
B05D3/06 C
, B05D7/24 302Y
4D075BB24Z
, 4D075BB42Z
, 4D075CA02
, 4D075DB01
, 4D075DB11
, 4D075DB18
, 4D075DB21
, 4D075DB31
, 4D075DB36
, 4D075DB43
, 4D075DB48
, 4D075EA21
, 4D075EB43
, 4D075EB52
, 4D075EB56
, 4D075EC37
