特許

J-GLOBAL ID：201303019989927621

荷電粒子線装置及び物品製造方法

発明者： 鈴木 武彦
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (6件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-042386
公開番号（公開出願番号）：特開2013-178961
出願日： 2012年02月28日
公開日（公表日）： 2013年09月09日
要約：

【課題】 荷電粒子線の強度計測の正確さの点で有利な荷電粒子線装置を提供する。【解決手段】 荷電粒子線で物体を処理する荷電粒子線装置は、検出面を有し、該検出面の一部の領域に入射した荷電粒子線を検出する検出器と、前記検出面に順次入射させる荷電粒子線の目標入射位置を互いに異ならせる制御部と、を備える。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

荷電粒子線で物体を処理する荷電粒子線装置であって、 検出面を有し、該検出面の一部の領域に入射した荷電粒子線を検出する検出器と、 前記検出面に順次入射させる荷電粒子線の目標入射位置を互いに異ならせる制御部と、 を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。

IPC (2件)：

H01J 37/04 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

H01J37/04 A ,  H01L21/30 541E ,  H01L21/30 541N

Fターム (7件)：

5C030AA02 ,  5C030AA04 ,  5C030AB02 ,  5C030AB03 ,  5C030AB05 ,  5F056BA01 ,  5F056BB03

引用特許：

審査官引用 (4件)

• マルチ荷電粒子線露光装置および方法ならびに該装置または方法を用いたデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-206223   出願人：キヤノン株式会社, 株式会社日立ハイテクノロジーズ
• イオンビーム電流検出機構
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-095636   出願人：山形日本電気株式会社
• 電子ビーム露光装置、及び電子ビーム計測モジュール
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-213198   出願人：株式会社アドバンテスト, キヤノン株式会社, 株式会社日立製作所
• マルチ電子ビーム装置およびそれに用いられるマルチ電子ビーム電流の計測・表示方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-369402   出願人：株式会社日立製作所, キヤノン株式会社, 株式会社アドバンテスト