特許
J-GLOBAL ID：201303022587787778

レジストパターン形成用感放射線性樹脂組成物

発明者：
榊原 宏和

榊原 宏和 について

, 
宮田 拡

宮田 拡 について

, 
伊藤 亘史

伊藤 亘史 について

, 
古川 泰一

古川 泰一 について


出願人/特許権者：
JSR株式会社

JSR株式会社 について


代理人 (8件)： 天野 一規 ,  藤本 勝誠 ,  池田 義典 ,  小川 博生 ,  加藤 早苗 ,  石田 耕治 ,  森田 慶子 ,  各務 幸樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-202133
公開番号（公開出願番号）：特開2013-064785
出願日： 2011年09月15日
公開日（公表日）： 2013年04月11日
要約：
【課題】本発明の目的は、感度を十分に満足し、かつEL、DOF、CDU及びMEEFに優れる感放射線性樹脂組成物を提供することである。【解決手段】本発明は、有機溶媒が80質量%以上の現像液を用いるレジストパターン形成用感放射線性樹脂組成物であって、上記感放射線性樹脂組成物が、[A]酸解離性基を有する重合体、及び[B]感放射線性酸発生体を含有し、かつ上記有機溶媒で現像した場合のレジスト感度曲線から算出されるコントラスト値γが、5.0以上30.0以下であることを特徴とするレジストパターン形成用感放射線性樹脂組成物である。上記有機溶媒は、炭素数3〜7のカルボン酸アルキルエステル及び炭素数3〜10のジアルキルケトンからなる群より選択される少なくとも1種の有機溶媒であることが好ましい。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
有機溶媒が80質量%以上の現像液を用いるレジストパターン形成用感放射線性樹脂組成物であって、 上記感放射線性樹脂組成物が、 [A]酸解離性基を有する重合体、及び [B]感放射線性酸発生体 を含有し、かつ 上記有機溶媒で現像した場合のレジスト感度曲線から算出されるコントラスト値γが、5.0以上30.0以下であることを特徴とするレジストパターン形成用感放射線性樹脂組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/32 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/32 ,  H01L21/30 502R
Fターム (45件)：
2H096AA25 ,  2H096BA06 ,  2H096DA01 ,  2H096EA05 ,  2H096FA01 ,  2H096GA03 ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF22P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF41P ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH22 ,  2H125AH23 ,  2H125AH24 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ52X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ66X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AL03 ,  2H125AL11 ,  2H125AM22P ,  2H125AM27P ,  2H125AM94P ,  2H125AM99P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN54P ,  2H125AN64P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA13 ,  2H125CB09 ,  2H125CC01 ,  2H125CC15 ,  2H125CD01P ,  2H125CD31 ,  2H125FA03 ,  2H125FA05
引用特許：
審査官引用 (6件)
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