特許
J-GLOBAL ID:201303024278479395
基板洗浄方法及び基板洗浄装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
渡邉 勇
, 小杉 良二
, 廣澤 哲也
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-229549
公開番号(公開出願番号):特開2013-089797
出願日: 2011年10月19日
公開日(公表日): 2013年05月13日
要約:
【課題】フットプリントや洗浄時間を増大させることなく、スクラブ洗浄部材への負荷を低減させ、研磨後の基板表面の研磨性能を向上させた洗浄を行う。【解決手段】移動アーム48を移動させて、基板Wのエッジ上方の退避位置に位置するスクラブ洗浄部材40を基板Wのセンタ上方のスクラブ洗浄位置に移動させ、移動アーム48の移動に伴って、2流体ノズル70を該2流体ノズル70から回転中の基板Wの表面に向けて流体を噴出させて該表面の2流体ジェット洗浄を行いながら移動させ、2流体ノズル70からの流体の噴出を停止させた後、スクラブ洗浄部材40を基板Wの表面に接触させてスクラブ洗浄を行う。【選択図】図2
請求項(抜粋):
スクラブ洗浄部材を擦り付けて研磨後の基板の表面をスクラブ洗浄する直前に、2種類以上の流体を2流体ノズルから基板の表面に向けて噴出させて該表面を非接触で洗浄する2流体ジェット洗浄を行うことを特徴とする基板洗浄方法。
IPC (1件):
FI (5件):
H01L21/304 651B
, H01L21/304 644C
, H01L21/304 643A
, H01L21/304 643C
, H01L21/304 622Q
Fターム (28件):
5F057AA21
, 5F057AA33
, 5F057BA11
, 5F057CA25
, 5F057DA39
, 5F057FA37
, 5F157AA66
, 5F157AA73
, 5F157AA96
, 5F157AB02
, 5F157AB14
, 5F157AB33
, 5F157AB90
, 5F157AC01
, 5F157AC26
, 5F157BA02
, 5F157BA07
, 5F157BA13
, 5F157BA14
, 5F157BB22
, 5F157BB36
, 5F157BB79
, 5F157CB03
, 5F157CB13
, 5F157CF66
, 5F157DB02
, 5F157DB47
, 5F157DC90
引用特許:
審査官引用 (3件)
-
研磨した石英ガラス基板の洗浄方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2009-160377
出願人:東ソー株式会社
-
基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2008-076612
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
-
基板の洗浄方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-231046
出願人:株式会社ニコン
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