特許
J-GLOBAL ID:201303024419849698

ZnO蒸着材及び該ZnO蒸着材を用いてZnO膜を形成する方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 須田 正義
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-225579
公開番号(公開出願番号):特開2013-057124
出願日: 2012年10月11日
公開日(公表日): 2013年03月28日
要約:
【課題】ZnO膜の成膜時にスプラッシュの発生を防止することができる、ZnO蒸着材を提供する。【解決手段】ZnO蒸着材は、ZnOの多孔質焼結体からなり、その焼結体が0.2以上3.0%未満の気孔率とすることで、内部に存在するガスを著しく減少させることができ、0.1〜300μmの範囲の平均気孔径をとすることで、蒸発速度を高くすることが可能となり、製造コストを低減することができる。ZnO膜は、上記ZnO蒸着材を用いて形成される。【選択図】なし
請求項(抜粋):
ZnOの多孔質焼結体からなり、前記焼結体が0.2以上3.0%未満の気孔率を有するZnO蒸着材。
IPC (4件):
C23C 14/24 ,  C23C 14/08 ,  C04B 35/453 ,  H01B 13/00
FI (4件):
C23C14/24 E ,  C23C14/08 C ,  C04B35/00 P ,  H01B13/00 503B
Fターム (19件):
4G030AA32 ,  4G030BA02 ,  4G030BA15 ,  4G030GA04 ,  4G030GA05 ,  4G030GA14 ,  4G030GA22 ,  4G030GA25 ,  4G030GA27 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA49 ,  4K029BC09 ,  4K029CA02 ,  4K029DB05 ,  4K029DB08 ,  4K029DB21 ,  5G323BA02 ,  5G323BB04
引用特許:
審査官引用 (3件)
引用文献:
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