特許
J-GLOBAL ID:201303024419849698
ZnO蒸着材及び該ZnO蒸着材を用いてZnO膜を形成する方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
須田 正義
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-225579
公開番号(公開出願番号):特開2013-057124
出願日: 2012年10月11日
公開日(公表日): 2013年03月28日
要約:
【課題】ZnO膜の成膜時にスプラッシュの発生を防止することができる、ZnO蒸着材を提供する。【解決手段】ZnO蒸着材は、ZnOの多孔質焼結体からなり、その焼結体が0.2以上3.0%未満の気孔率とすることで、内部に存在するガスを著しく減少させることができ、0.1〜300μmの範囲の平均気孔径をとすることで、蒸発速度を高くすることが可能となり、製造コストを低減することができる。ZnO膜は、上記ZnO蒸着材を用いて形成される。【選択図】なし
請求項(抜粋):
ZnOの多孔質焼結体からなり、前記焼結体が0.2以上3.0%未満の気孔率を有するZnO蒸着材。
IPC (4件):
C23C 14/24
, C23C 14/08
, C04B 35/453
, H01B 13/00
FI (4件):
C23C14/24 E
, C23C14/08 C
, C04B35/00 P
, H01B13/00 503B
Fターム (19件):
4G030AA32
, 4G030BA02
, 4G030BA15
, 4G030GA04
, 4G030GA05
, 4G030GA14
, 4G030GA22
, 4G030GA25
, 4G030GA27
, 4K029AA09
, 4K029AA24
, 4K029BA49
, 4K029BC09
, 4K029CA02
, 4K029DB05
, 4K029DB08
, 4K029DB21
, 5G323BA02
, 5G323BB04
引用特許:
引用文献: