特許
J-GLOBAL ID:201303024455876642

パターン寸法測定装置、パターン寸法測定方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 井上 誠一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-071441
公開番号(公開出願番号):特開2013-205076
出願日: 2012年03月27日
公開日(公表日): 2013年10月07日
要約:
【課題】短時間で精度良くパターン寸法の測定を行うことが可能なパターン寸法測定装置等を提供する。【解決手段】パターン寸法測定装置1は、測定テーブル11、搬送ステージ12、ラインカメラ13、照明装置14、情報処理装置15等を有し、測定テーブル11ではガラス11b上に校正パターンが形成されている。パターン寸法測定装置1は、ラインカメラ13と照明装置14を停止することなく移動させながら、測定テーブル11上のFPRフィルムと校正パターンを共に撮像する。情報処理装置15は、ラインカメラ13でFPRフィルムおよび校正パターンを撮像した画像から、校正パターンの目盛に基づいてFPRフィルムのパターンの寸法を測定する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
対象物が有するパターンの寸法の測定を行うパターン寸法測定装置であって、 測定テーブルと、 前記測定テーブルに対し相対的に移動可能な撮像装置と、 情報処理装置と、 前記撮像装置の移動方向に沿った所定間隔の目盛を有する校正パターンと、 を備え、 前記撮像装置は、前記測定テーブルに対して相対的に移動しながら、前記測定テーブルに配置された前記対象物を前記校正パターンと共に撮像し、 前記情報処理装置は、前記撮像装置で前記対象物および前記校正パターンを撮像した画像から、前記校正パターンの目盛に基づいて前記対象物のパターンの寸法を測定することを特徴とするパターン寸法測定装置。
IPC (1件):
G01B 11/02
FI (1件):
G01B11/02 H
Fターム (22件):
2F065AA14 ,  2F065AA20 ,  2F065AA22 ,  2F065BB02 ,  2F065BB22 ,  2F065BB28 ,  2F065CC00 ,  2F065CC02 ,  2F065DD03 ,  2F065DD06 ,  2F065FF02 ,  2F065FF04 ,  2F065FF61 ,  2F065HH15 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ25 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL32 ,  2F065MM07 ,  2F065PP02 ,  2F065PP11
引用特許:
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る