特許

J-GLOBAL ID：201303024999599901

基板保持装置および基板保持方法

発明者： 岩下 泰治 ,  平河 修 ,  相馬 康孝 ,  田村 武 ,  福冨 亮
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 酒井 宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-085513
公開番号（公開出願番号）：特開2013-219070
出願日： 2012年04月04日
公開日（公表日）： 2013年10月24日
要約：

【課題】基板を安定して保持すること。【解決手段】実施形態に係る基板保持装置は、第1吸着保持部と、第2吸着保持部とを備える。第1吸着保持部は、流体を噴出して基板との間に負圧を発生させることによって基板を非接触状態で吸着保持する。第2吸着保持部は、電圧を印加することによって基板との間に発生する力を用いて基板を吸着保持する。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

流体を噴出して基板との間に負圧を発生させることによって前記基板を非接触状態で吸着保持する第1吸着保持部と、 電圧を印加することによって前記基板との間に発生する力を用いて前記基板を吸着保持する第2吸着保持部と を備えることを特徴とする基板保持装置。

IPC (2件)：

H01L 21/677 ,  B65G 49/07

FI (2件)：

H01L21/68 C ,  B65G49/07 H

Fターム (12件)：

5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031GA02 ,  5F031GA28 ,  5F031GA30 ,  5F031GA50 ,  5F031JA45 ,  5F031MA03 ,  5F031PA02

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 搬送装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-356495   出願人：新光電気工業株式会社
• 板状物の搬送装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-034709   出願人：株式会社ディスコ
• プラズマ処理装置被処理基板固定方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-134046   出願人：富士通株式会社
• 特開平4-147642
  

審査官引用 (2件)

• 搬送装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-356495   出願人：新光電気工業株式会社
• 板状物の搬送装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-034709   出願人：株式会社ディスコ