特許
J-GLOBAL ID：201303030907173172

欠陥検査方法及びその装置

発明者：
前田 俊二

前田 俊二 について

, 
酒井 薫

酒井 薫 について

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西山 英利

西山 英利 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (1件)： ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-102708
公開番号（公開出願番号）：特開2013-231725
出願日： 2013年05月15日
公開日（公表日）： 2013年11月14日
要約：
【課題】被検査対象基板上に繰り返して形成される様々な回路パターン上に生じる欠陥または異物を、光学条件に依存せず、正常な回路パターンと弁別して欠陥を検出する欠陥検査方法、及び、その装置を提供する。【解決手段】被検査対象基板から取得した画像信号に対して、着目画素を含むその周囲に切り出す着目局所領域と、前記着目画素に対応する複数の対応画素の各々を含むその周囲に切り出す複数の対応局所領域の各々を設定し、該設定された着目局所領域の画像信号と前記局所領域設定ステップで設定された複数の対応局所領域の画像信号との類似度を探索し、該探索される類似度情報を用いて、前記着目局所領域の画像信号に類似する前記対応局所領域の画像信号を複数決定し、該決定した前記複数の対応局所領域の画像信号と前記着目局所領域の画像信号とを比較して総合的に欠陥を判定する。【選択図】図12
請求項（抜粋）：
繰り返される回路パターンが形成された被検査対象基板から画像信号を取得し、該取得 された画像信号を基に被検査対象基板上に存在する欠陥を検査する欠陥検査方法であって 、 前記取得した画像信号に対して、着目画素を含むその周囲に切り出す着目局所領域と、 前記着目画素に対応する複数の対応画素の各々を含むその周囲に切り出す複数の対応局所 領域の各々を設定する局所領域設定ステップと、 該局所領域設定ステップで設定された前記各対応局所領域から切り出された画像信号を 基に前記対応局所領域間のジョイントヒストグラム特徴空間を形成する形成ステップと、 該形成ステップで形成されたジョイントヒストグラム特徴空間を基にしきい値を決定す るしきい値決定ステップと、 該しきい値決定ステップで決定されたしきい値を用いて、前記着目局所領域と前記対応 局所領域との差画像を基に前記着目局所領域に存在する前記欠陥を検出する欠陥検出ステ ップとを有することを特徴とする欠陥検査方法。
IPC (3件)：
G01N 21/956 ,  G01B 11/30 ,  H01L 21/66
FI (3件)：
G01N21/956 A ,  G01B11/30 A ,  H01L21/66 J
Fターム (50件)：
2F065AA49 ,  2F065BB02 ,  2F065CC25 ,  2F065FF04 ,  2F065FF26 ,  2F065FF41 ,  2F065GG02 ,  2F065GG04 ,  2F065GG22 ,  2F065HH16 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ25 ,  2F065LL30 ,  2F065QQ08 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ29 ,  2F065QQ31 ,  2F065QQ36 ,  2F065QQ43 ,  2G051AA51 ,  2G051AA73 ,  2G051AB01 ,  2G051AB07 ,  2G051BA10 ,  2G051BA11 ,  2G051BB05 ,  2G051CA03 ,  2G051CB05 ,  2G051CB06 ,  2G051CC07 ,  2G051DA07 ,  2G051EA08 ,  2G051EA14 ,  2G051EA16 ,  2G051EB01 ,  2G051EB02 ,  2G051EC02 ,  2G051ED01 ,  2G051ED21 ,  4M106AA01 ,  4M106AA02 ,  4M106AA09 ,  4M106BA05 ,  4M106BA07 ,  4M106CA39 ,  4M106DJ13 ,  4M106DJ14 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (6件)
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