半導体製造機器の換気方法及び換気設備

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐々木聖孝
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-362156
公開番号（公開出願番号）：特開2001-176762
特許番号：特許第4731650号
出願日： 1999年12月21日
公開日（公表日）： 2001年06月29日
請求項（抜粋）：

【請求項1】クリーンルーム内に設置される半導体製造機器を換気する半導体製造機器の換気方法であって、前記半導体製造機器のケーシングを前記クリーンルーム内に供給される第1の空気に対して密閉し、前記第1の空気から遮断された空気循環系統により換気用の第2の空気を前記ケーシング内に循環供給し、前記空気循環系統内で前記第2の空気の圧力が第1の設定圧力以上になっている時に前記空気循環系統内の前記第2の空気を削減する、換気方法。

IPC (2件)：