レジスト剥離剤組成物

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：永井隆
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-197935
公開番号（公開出願番号）：特開2003-015320
特許番号：特許第4810764号
出願日： 2001年06月29日
公開日（公表日）： 2003年01月17日
請求項（抜粋）：

【請求項1】アミン化合物と、下記[I]式または[II]式で表される構造を有するアルカノールアミド化合物を含有することを特徴とするレジスト剥離剤組成物。 (R1=H、アルキル基、ヒドロキシアルキル基、アリール基またはアミノ基、R2=H、ヒドロキシアルキル基、アリール基またはアリル基、R3=H、アルキル基またはヒドロキシアルキル基)

IPC (2件)：