多孔質シリコン

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人川口國際特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-543911
公開番号（公開出願番号）：特表2013-514252
出願日： 2010年12月16日
公開日（公表日）： 2013年04月25日
要約：

金属イオンを含む化学エッチング液を使用して多孔質シリコンを製造する方法が、記載される。

請求項（抜粋）：

粒子状の元素シリコンを、フッ化水素酸および溶解金属塩を含む化学エッチング水溶液と接触させるステップを含む、多孔質シリコンを製造する方法。

IPC (4件)：

C01B 33/02 , A23L 1/00 , A61K 8/25 , A61K 47/04

FI (4件)：

C01B33/02 E , A23L1/00 K , A61K8/25 , A61K47/04

Fターム (41件)：

4B035LC06 , 4B035LC16 , 4B035LG01 , 4B035LK14 , 4B035LK19 , 4C076DD29 , 4C076FF02 , 4C076FF31 , 4C083AB171 , 4C083AB172 , 4C083BB23 , 4C083BB26 , 4C083CC01 , 4C083FF01 , 4G072AA01 , 4G072BB05 , 4G072BB15 , 4G072DD04 , 4G072GG01 , 4G072GG03 , 4G072HH01 , 4G072JJ11 , 4G072JJ18 , 4G072JJ28 , 4G072LL06 , 4G072LL07 , 4G072MM22 , 4G072MM23 , 4G072MM24 , 4G072MM31 , 4G072NN27 , 4G072TT01 , 4G072TT05 , 4G072TT06 , 4G072TT08 , 4G072TT09 , 4G072UU07 , 4G072UU15 , 4G072UU17 , 4G072UU27 , 4G072UU30

引用特許：

審査官引用 (1件)

口腔衛生組成物
公報種別：公表公報出願番号：特願2008-507166 出願人：サイメデイカリミテツド

引用文献：

審査官引用 (4件)

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