特許
J-GLOBAL ID：201303035679838438

光学素子

発明者：
塩田 国弘

塩田 国弘 について


出願人/特許権者：
NLTテクノロジー株式会社

NLTテクノロジー株式会社 について


代理人 (1件)： 高橋 勇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-248054
公開番号（公開出願番号）：特開2013-178469
出願日： 2012年11月12日
公開日（公表日）： 2013年09月09日
要約：
【課題】製造工程中における凸パターンの凝集及び光吸収層の窪みの発生の少なくとも一方を抑制し得る光学素子を提供する。【解決手段】マイクロルーバ100は、透明基板110と、透明基板110の表面111に形成された透明層120と、透明層120の透明基板110に接する面を下面121、下面121の反対側を上面122としたとき、透明層120に形成されるとともに上面122を頂面とする互いに離間した複数の凸パターン130と、これらの凸パターン130の相互間に形成された光吸収層140とを備えている。そして、透明基板110の表面111に垂直な面である凸パターン130の断面は、下面121側の幅131よりも上面122側の幅132が広い。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
透明基板と、 この透明基板の表面に形成された透明層と、 この透明層の前記透明基板に接する面を下面、この下面の反対側を上面としたとき、当該透明層に形成されるとともに当該上面を頂面とする互いに離間した複数の凸パターンと、 これらの凸パターンの相互間に形成された光吸収層とを備え、 前記透明基板の表面に垂直な面である前記凸パターンの断面は、前記下面側の幅よりも前記上面側の幅が広い、 光学素子。
IPC (2件)：
G02B 5/00 ,  G09F 9/00
FI (2件)：
G02B5/00 B ,  G09F9/00 313
Fターム (10件)：
2H042AA10 ,  2H042AA11 ,  2H042AA26 ,  5G435AA06 ,  5G435BB05 ,  5G435BB12 ,  5G435DD11 ,  5G435FF14 ,  5G435HH02 ,  5G435LL07
引用特許：
審査官引用 (4件)
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