特許
J-GLOBAL ID：201303035859189691
ガラス基板のレーザスクライブおよび分離方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
柳田 征史
, 佐久間 剛
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-542099
公開番号（公開出願番号）：特表2013-512187
出願日： 2010年11月24日
公開日（公表日）： 2013年04月11日
要約：
圧縮表面層と内部引張層とを含む強化ガラス基板に、スクライブベントを形成する方法が提供される。一実施の形態において、第1および第2傷が、内部引張層を部分的に露出させるように形成される。強化ガラス基板の表面上でレーザビームと冷却ジェットとを第1スクライブ速度で平行移動させることにより、第1スクライブベントを第1スクライブ方向に発生させてもよい。強化ガラス基板の表面上でレーザビームと冷却ジェットとを、第1スクライブ速度より速い第2スクライブ速度で平行移動させることにより、第1スクライブベントと交差する第2スクライブベントを第2スクライブ方向に発生させてもよい。これらの傷は、スクライブ方向に垂直なものでもよい。別の実施形態においては、第2のスクライブベントを生成する前に、第1スクライブベントを交差位置で融着させてもよい。
請求項（抜粋）：
圧縮表面層と内部引張層とを含む強化ガラス基板に、交差しているスクライブベントを形成する方法であって、
前記内部引張層を部分的に露出させるよう、前記圧縮表面層を貫通する第1傷を形成するステップであって、該第1傷が前記強化ガラス基板の第1エッジからずれて位置しているステップ、
前記内部引張層を部分的に露出させるよう、前記圧縮表面層を貫通する第2傷を形成するステップであって、該第2傷が前記強化ガラス基板の第2エッジからずれて位置しているステップ、
前記強化ガラス基板の表面上でレーザビームと冷却ジェットとを第1スクライブ速度で平行移動させることにより、前記圧縮表面層を貫通する第1スクライブベントを第1スクライブ方向に発生させるステップであって、該第1スクライブベントが、前記第1傷で始まり、かつ前記強化ガラス基板のエッジからずれている第1終端位置で終端するステップ、および、
前記強化ガラス基板の表面上で前記レーザビームと前記冷却ジェットとを、前記第1スクライブ速度以上の第2スクライブ速度で平行移動させることにより、前記圧縮表面層を貫通する第2スクライブベントを第2スクライブ方向に発生させるステップであって、該第2スクライブベントが、前記第2傷で始まり、かつ前記第1スクライブベントと交差位置で交差し、さらに前記強化ガラス基板のエッジからずれている第2終端位置で終端するステップ、
を含むことを特徴とする方法。
IPC (4件)：
C03B 33/09
, B23K 26/00
, B23K 26/40
, B23K 26/42
C03B33/09
, B23K26/00 D
, B23K26/00 G
, B23K26/40
, B23K26/42
4E068AD00
, 4E068CA07
, 4E068CH08
, 4E068CJ01
, 4E068DA14
, 4E068DB13
, 4G015FA03
, 4G015FA06
, 4G015FB01
, 4G015FC02
, 4G015FC14
