特許

J-GLOBAL ID：201303037184329653

化合物、ラジカル重合開始剤、化合物の製造方法、重合体、レジスト組成物、レジストパターン形成方法。

発明者： 内海 義之 ,  太宰 尚宏 ,  岩下 淳 ,  昆野 健理
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (4件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  五十嵐 光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-135672
公開番号（公開出願番号）：特開2013-001850
出願日： 2011年06月17日
公開日（公表日）： 2013年01月07日
要約：

【課題】ラジカル重合開始剤として有用な化合物、該化合物からなるラジカル重合開始剤、該化合物の製造方法、レジスト組成物用として有用な重合体、該重合体を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】式(I)で表される化合物[式中R1は炭素数1〜10の炭化水素基、Zは炭素数1〜10の炭化水素基又はシアノ基であり、R1とZとは相互に結合して環を形成してもよい。Xは2価の連結基であって、-O-C(=O)-、-NH-C(=O)-及び-NH-C(=NH)-の何れかをQと接する末端に有する。R2は単結合、置換基を有していてもよいアルキレン基又は置換基を有していてもよいアリーレン基、q、rは夫々独立に0又は1、A+は金属カチオン又は有機カチオンである]。[化1]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)で表される化合物。

IPC (4件)：

C08F 4/04 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

C08F4/04 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R

Fターム (42件)：

2H125AF13P ,  2H125AF16P ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF20P ,  2H125AF21P ,  2H125AF26P ,  2H125AF34P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF70P ,  2H125AH05 ,  2H125AH15 ,  2H125AH16 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH22 ,  2H125AH23 ,  2H125AH24 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ12X ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM22P ,  2H125AM99P ,  2H125AN02P ,  2H125AN21P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN63P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CB16 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4J015AA04

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 重合性アニオンを有する含フッ素スルホン塩類とその製造方法、含フッ素樹脂、レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-268476   出願人：セントラル硝子株式会社
• 重合性アニオンを有するスルホニウム塩及び高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-188232   出願人：信越化学工業株式会社
• 化合物、ラジカル重合開始剤、重合体、レジスト組成物、レジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-214298   出願人：東京応化工業株式会社
• 重合開始剤および重合方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-245654   出願人：三新化学工業株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Synthesis and characterization of new surface active azo initiators for radical reactions