化合物、ラジカル重合開始剤、重合体、レジスト組成物、レジストパターン形成方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 鈴木三義 , 柳井則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-214298
公開番号（公開出願番号）：特開2010-037528
出願日： 2008年08月22日
公開日（公表日）： 2010年02月18日
要約：

【課題】レジスト組成物、特に液浸露光用レジスト組成物用として有用な重合体、該重合体の製造に用いるラジカル重合開始剤として有用な化合物、該化合物からなるラジカル重合開始剤、該重合体を含有するレジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】主鎖の少なくとも一方の末端に下記一般式(i-1)で表される基を有する重合体。下記一般式(I)で表される化合物。該化合物からなるラジカル重合開始剤。前記重合体を含有するレジスト組成物。式中、R1は置換基を有していてもよいアルキレン基である。R2は、当該式中の-O-R2を、アルカリ現像液の作用により解離する塩基解離性基とする有機基である。 [化1]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

主鎖の少なくとも一方の末端に下記一般式(i-1)で表される基を有する重合体。

IPC (6件)：

C08F 220/10 , C08F 4/04 , G03F 7/039 , G03F 7/004 , C07C 245/04 , H01L 21/027

FI (6件)：

C08F220/10 , C08F4/04 , G03F7/039 601 , G03F7/004 501 , C07C245/04 , H01L21/30 502R

Fターム (62件)：

2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BF02 , 2H025BG00 , 2H025CC20 , 2H025FA01 , 2H025FA10 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4H006AA01 , 4H006AB40 , 4J015AA06 , 4J100AL03P , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL08S , 4J100AL26Q , 4J100BA02R , 4J100BA02S , 4J100BA04Q , 4J100BA11Q , 4J100BA11S , 4J100BA15R , 4J100BA15S , 4J100BB18Q , 4J100BC02P , 4J100BC02Q , 4J100BC03P , 4J100BC03Q , 4J100BC03R , 4J100BC03S , 4J100BC04P , 4J100BC04Q , 4J100BC04R , 4J100BC04S , 4J100BC07P , 4J100BC07Q , 4J100BC07R , 4J100BC08P , 4J100BC08Q , 4J100BC08R , 4J100BC08S , 4J100BC09P , 4J100BC09Q , 4J100BC09R , 4J100BC09S , 4J100BC12P , 4J100BC12Q , 4J100BC12R , 4J100BC12S , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100FA03 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (11件)

レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-272233 出願人：富士フイルム株式会社
会合型水溶性3元ブロック共重合体
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-286100 出願人：エルフアトケムソシエテアノニム
ポリサッカリドおよびトリブロックフルオロポリマーを含む耐アルコール性消火用泡沫濃厚物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-050519 出願人：エルフ・アトケム・エス・アー

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