特許
J-GLOBAL ID:201303039269778557
イオンビーム発生方法とそれを実施する為のイオンビーム発生装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-321053
公開番号(公開出願番号):特開2008-135309
特許番号:特許第5051634号
出願日: 2006年11月29日
公開日(公表日): 2008年06月12日
請求項(抜粋):
【請求項1】ヘリウムイオンビームを用いて所望の作業を行わせる装置におけるイオンビーム発生方法であって、
高周波放電によりヘリウムプラズマを発生させてから、前記ヘリウムプラズマ中に生成する準安定ヘリウム原子23S1に、準安定ヘリウム原子23S1から23Pへの遷移に対応する1083nmのD0線、D1線、D2線の内のどれかの波長の光を照射して、前記準安定ヘリウム原子23S1を23Pへ光ポンピングすることを特徴とするイオンビーム発生方法。
IPC (4件):
H01J 27/16 ( 200 6.01)
, H01J 27/24 ( 200 6.01)
, H01J 37/08 ( 200 6.01)
, H01J 37/252 ( 200 6.01)
FI (4件):
H01J 27/16
, H01J 27/24
, H01J 37/08
, H01J 37/252 B
引用特許:
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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成膜装置及びイオン源
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-003147
出願人:日新電機株式会社
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プラズマ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-331033
出願人:株式会社日立製作所
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薄膜形成方法及び装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-369258
出願人:株式会社神戸製鋼所
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引用文献:
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