特許
J-GLOBAL ID:201303040996072304
化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
中山 亨
, 坂元 徹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-171771
公開番号(公開出願番号):特開2013-076060
出願日: 2012年08月02日
公開日(公表日): 2013年04月25日
要約:
【課題】優れたCD均一性(CDU)を有するレジストパターンを製造できるレジスト組成物及び該レジスト組成物に含まれる樹脂製造用化合物を提供する。【解決手段】式(I)で表される化合物。[式(I)中、T1は、単結合、-CO-O-(CH2)n-又は炭素数6〜14の芳香族炭化水素基を表す。nは1〜6の整数を表す。R1は、水素原子又はメチル基を表す。R2は、水素原子又は酸に不安定な基を表す。]【選択図】なし
請求項(抜粋):
式(I)で表される化合物。
IPC (3件):
C08F 20/28
, G03F 7/039
, H01L 21/027
FI (3件):
C08F20/28
, G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
Fターム (64件):
2H125AF17P
, 2H125AF18P
, 2H125AF38P
, 2H125AH04
, 2H125AH06
, 2H125AH17
, 2H125AH19
, 2H125AH23
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ14Y
, 2H125AJ18X
, 2H125AJ18Y
, 2H125AJ43Y
, 2H125AJ48Y
, 2H125AJ65X
, 2H125AJ68X
, 2H125AJ69X
, 2H125AJ69Y
, 2H125AL03
, 2H125AL11
, 2H125AM22P
, 2H125AM99P
, 2H125AN38P
, 2H125AN39P
, 2H125AN45P
, 2H125AN54P
, 2H125AN65P
, 2H125AN67P
, 2H125BA02P
, 2H125BA26P
, 2H125CA12
, 2H125CB09
, 2H125CB12
, 2H125CB16
, 2H125CC03
, 2H125CC15
, 2H125FA03
, 4J100AB07Q
, 4J100AB07S
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100AL08S
, 4J100AL08T
, 4J100BA02T
, 4J100BA03Q
, 4J100BA03R
, 4J100BA03S
, 4J100BA11S
, 4J100BA11T
, 4J100BA15S
, 4J100BC03Q
, 4J100BC04Q
, 4J100BC09P
, 4J100BC09R
, 4J100BC09S
, 4J100BC09T
, 4J100BC53S
, 4J100BC53T
, 4J100BC84Q
, 4J100CA03
, 4J100CA06
, 4J100DA01
, 4J100JA38
引用特許:
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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