特許
J-GLOBAL ID：201303043413052806
マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
池上 徹真
, 須藤 章
, 松山 允之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-065387
公開番号（公開出願番号）：特開2013-197468
出願日： 2012年03月22日
公開日（公表日）： 2013年09月30日
要約：
【目的】スループットを低下させずにマルチビームの各ビームの電流量を校正可能な描画装置を提供する。【構成】マルチ荷電粒子ビーム描画装置は、複数のビーム群に分け、各ビーム群の電流値を測定するビーム群電流測定部と、当該ビーム群の電流値と、補正係数で補正された開口面積と関数式との積の当該ビーム群分の和と、の差分をすべてのビーム群について2乗した値の和を最小化する関数式を算出する関数式算出部と、描画処理の間に、各ビームの電流値を測定する個別ビーム電流値測定部と、関数式と当該ビームの電流値とを用いて、開口面積を補正する補正係数を算出する補正係数算出部と、補正係数を更新する更新部と、所定の関数式を用いて、各ビームの電流密度を算出する電流密度算出部と、各ビームの電流密度を用いて、各ビームの照射時間を算出する照射時間算出部と、算出された照射時間で試料にパターンを描画する描画部と、を備えたことを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
荷電粒子ビームの照射を受けてマルチビームを形成する複数の開口部を有するアパーチャ部材の複数の開口部を通過したマルチビームを、マルチビーム形成領域を分割した複数の領域の領域毎に複数のビーム群に分け、各領域のビーム群の電流値を測定するビーム群電流測定部と、
当該ビーム群を形成する各開口部の開口面積を補正する補正係数を用いて、当該ビーム群の電流値と、前記複数の開口部のうち、当該ビーム群を形成する各開口部における前記補正係数で補正された開口面積と所定の関数式との積の当該ビーム群分の和と、の差分をすべてのビーム群について2乗した値の和を最小化する前記所定の関数式を算出する関数式算出部と、
描画処理の間に、前記マルチビームの各ビームの電流値を測定する個別ビーム電流値測定部と、
前記マルチビームを構成するビーム毎に、前記所定の関数式と当該ビームの電流値とを用いて、当該ビームを形成する開口部の開口面積を補正する前記補正係数を算出する補正係数算出部と、
前記マルチビームを構成するビーム毎に、当該ビーム用の前記補正係数を更新する更新部と、
前記所定の関数式を用いて、前記マルチビームの各ビームの電流密度を算出する電流密度算出部と、
各ビームの電流密度を用いて、各ビームの照射時間を算出する照射時間算出部と、
算出された照射時間で各ビームを照射することによって、試料にパターンを描画する描画部と、
を備えたことを特徴とするマルチ荷電粒子ビーム描画装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20
, H01J 37/305
H01L21/30 541E
, H01L21/30 541W
, G03F7/20 521
, H01J37/305 B
5C034BB10
, 5F056AA33
, 5F056BA01
, 5F056CB03
, 5F056EA02
出願人引用 (14件)
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審査官引用 (14件)
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