特許
J-GLOBAL ID:201303047215513933

真空成膜装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 安田 敏雄 ,  安田 幹雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-012036
公開番号(公開出願番号):特開2013-151712
出願日: 2012年01月24日
公開日(公表日): 2013年08月08日
要約:
【課題】基材(フィルム)上に均一な皮膜を形成するとともに、ロールの端部に付着する皮膜の量を抑制してメンテナンスの頻度を低減することができる真空成膜装置を提供する。【解決手段】本発明の真空成膜装置は、真空チャンバと、真空チャンバ内に配置されると共に成膜対象であるシート状の基材Wが巻き掛けられる成膜ロールと、成膜ロールの内部に設けられて当該成膜ロールの表面に磁場を形成する磁場発生部と、を備えた真空成膜装置であって、磁場発生部は、成膜ロールの軸方向に沿って配置された内側磁石13と、内側磁石13と反対の極性を有し内側磁石13を環状に取り囲む外側磁石14とを有しており、内側磁石13は、基材Wの成膜面から見た投影において成膜ロールに基材Wが巻き掛けられている範囲より、成膜ロールの軸方向に沿って幅狭となるように形成され、かつ、基材Wが巻き掛けられる範囲内に配置されている。【選択図】図3
請求項(抜粋):
真空チャンバと、当該真空チャンバ内に配置されると共に成膜対象であるシート状の基材が巻き掛けられる成膜ロールと、前記成膜ロールの内部に設けられて当該成膜ロールの表面に磁場を形成する磁場発生部と、を備えた真空成膜装置であって、 前記磁場発生部は、前記成膜ロールの軸方向に沿って配置された内側磁石と、前記内側磁石と反対の極性を有し前記内側磁石を環状に取り囲む外側磁石とを有しており、 前記内側磁石は、基材の成膜面から見た投影において、前記成膜ロールに前記基材が巻き掛けられている範囲より、前記成膜ロールの軸方向に沿って幅狭となるように形成され、かつ、前記基材が巻き掛けられる範囲内に配置されていることを特徴とする真空成膜装置。
IPC (2件):
C23C 16/54 ,  C23C 16/509
FI (2件):
C23C16/54 ,  C23C16/509
Fターム (8件):
4K030CA17 ,  4K030FA03 ,  4K030GA02 ,  4K030GA07 ,  4K030GA14 ,  4K030HA08 ,  4K030KA16 ,  4K030KA45
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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