特許
J-GLOBAL ID:201303048696546720
金属インク組成物、導電性パターン、方法および素子
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (12件):
清水 初志
, 春名 雅夫
, 山口 裕孝
, 刑部 俊
, 井上 隆一
, 佐藤 利光
, 新見 浩一
, 小林 智彦
, 渡邉 伸一
, 大関 雅人
, 五十嵐 義弘
, 川本 和弥
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-538066
公開番号(公開出願番号):特表2013-510241
出願日: 2010年11月08日
公開日(公表日): 2013年03月21日
要約:
堆積および処理時に導電性金属膜および金属線を形成するように適合させた金属錯体を提供する。該金属錯体は共有結合錯体であってよく、第1および第2の配位子を含みうる。低温処理を使用して該錯体を金属に変換することができる。該金属膜および金属線は純金属と同様の低い抵抗率および仕事関数を有しうる。貨幣金属を使用することができる(例えばAg、Au、Cu)。該配位子は、アミン、非対称アミンを含む供与結合配位子およびカルボキシレート配位子でありうる。硫黄錯体を使用することができる。カルボキシレート配位子を使用することができる。該錯体は高濃度の金属を有し得、芳香族炭化水素溶媒に可溶性でありうる。十分に揮発するように配位子を適合させることができる。インクジェット印刷を行うことができる。高導電率と共に高収率の金属を実現することができる。
請求項(抜粋):
少なくとも1つの金属と少なくとも2つの配位子とを含む少なくとも1つの金属錯体を含む、組成物であって、少なくとも1つの第1の配位子が、該金属へのσドナーであり、かつ該金属錯体を加熱する際に揮発し、第1の配位子とは異なる少なくとも1つの第2の配位子もまた、該金属錯体を加熱する際に揮発し、該金属錯体が25°Cの溶媒に可溶性である、組成物。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (19件):
4K022AA02
, 4K022AA03
, 4K022AA04
, 4K022AA05
, 4K022AA12
, 4K022AA13
, 4K022AA16
, 4K022BA01
, 4K022BA03
, 4K022BA08
, 4K022BA18
, 4K022DA06
, 4K022DA08
, 4K022DB04
, 4K022DB07
, 4K022DB18
, 4K022DB29
, 4K022DB30
, 4K022EA04
引用特許: