特許

J-GLOBAL ID：201303049568474942

ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク

発明者： 山嵜 司 ,  松尾 正 ,  福原 信彦 ,  原口 崇 ,  金山 浩一郎
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-021193
公開番号（公開出願番号）：特開2002-229177
特許番号：特許第4951813号
出願日： 2001年01月30日
公開日（公表日）： 2002年08月14日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 透明基板上に、遮光性膜、及び透明性膜が順次に形成されたハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクの露光波長における該遮光性膜の屈折率が該透明性膜の屈折率よりも大きく、前記遮光性膜と前記透明性膜の主構成元素がジルコニウムシリサイドであり、反応性スパッタリング法によって透明基板上に上層が透明性膜、下層を遮光性膜とする2層膜が成膜されるハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクにおいて、該ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクの露光波長が含まれる領域で、変曲点間に極小点が挟まれるように分光反射率曲線が設定されていることを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク。

IPC (4件)：

G03F 1/68 ( 201 2.01) ,  G03F 1/54 ( 201 2.01) ,  G03F 7/20 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)

FI (5件)：

G03F 1/08 A ,  G03F 1/08 G ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 P

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 露光用マスクとパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-108700   出願人：株式会社東芝
• 位相シフトフォトマスクブランクス及び位相シフトフォトマスク並びに半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-243103   出願人：アルバック成膜株式会社, 三菱電機株式会社
• ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-274429   出願人：凸版印刷株式会社