特許
J-GLOBAL ID：201303050086758844

ガス供給装置及び基板処理装置

発明者：
内田 陽平

内田 陽平 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (2件)： 別役 重尚 ,  村松 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-109798
公開番号（公開出願番号）：特開2013-239482
出願日： 2012年05月11日
公開日（公表日）： 2013年11月28日
要約：
【課題】処理空間においてより均一にプラズマを分布させることができるガス供給装置を提供する。【解決手段】処理ガス供給源や付加ガス供給源から処理空間Sへ処理ガスや付加ガスを供給するシャワーヘッド13(ガス供給装置)は、複数のガス分配板28〜31と、冷却板32と、蓋板33とを備え、ガス分配板28〜31、冷却板32、及び蓋板33が積層され、最下層のガス分配板28には、周縁ガス拡散室35及び最外ガス拡散室36が形成され、ガス分配板28〜31の各々には、処理ガス供給源や付加ガス供給源から周縁ガス拡散室35及び最外ガス拡散室36のいずれかへ処理ガスや付加ガスを供給する1つのガス供給路52(53,54又は55)が形成され、例えば、ガス分配板31のガス供給路52は複数の分岐路52b〜52eに分岐し、処理ガス供給源から各分岐路52b〜52eの先端までの距離は同一である。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
ガス供給源から処理空間へガスを供給するガス供給装置であって、 前記処理空間に対向し且つ多数の貫通穴を有する対向板と、複数のガス分配板と、蓋板とを備え、 前記対向板、前記複数のガス分配板、及び蓋板がこの順で積層され、 最も前記対向板寄りの前記ガス分配板における前記対向板側の面には複数のガス拡散室が形成され、 前記ガス分配板の各々には、前記ガス供給源から前記ガス拡散室のいずれかへ前記ガスを供給するガス供給路が1つ形成され、 前記ガス分配板の各々において、前記ガス供給路は複数の分岐路に分岐し、前記ガス供給源から各前記分岐路の先端までの距離は同一であることを特徴とするガス供給装置。
IPC (1件)：
H01L 21/306
FI (1件)：
H01L21/302 101B
Fターム (4件)：
5F004AA01 ,  5F004BA04 ,  5F004BA06 ,  5F004BB28
引用特許：
審査官引用 (4件)
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