特許
J-GLOBAL ID:201303050414667550

施工誤差を求める方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 一色国際特許業務法人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-169451
公開番号(公開出願番号):特開2013-032984
出願日: 2011年08月02日
公開日(公表日): 2013年02月14日
要約:
【課題】施工現場等において実際の面と設計面との間の施工誤差を求める。【解決手段】設計データで規定された設計面2Vと、設計データに基づいて形成される実際の面2Rとの間の設計面2Vの法線方向の施工誤差Eを、三次元位置座標を計測可能な測量計10を用いることにより求める。測量計10から計測用光を投光し、実際の面2Rからの反射光を受光することで、当たる位置の計測位置Pkの位置座標を、設計面2V内の平面位置を規定する平面位置座標と、設計面2Vの法線方向の位置を規定する法線位置座標とで示す。計測位置Pkの平面位置座標と一致する設計面2V上の位置の位置座標を、設計データから取得する設計面位置座標取得ステップと、計測位置Pkの法線位置座標と、設計面位置座標取得ステップで取得した設計面2V上の位置の法線位置座標とに基づいて、施工誤差Eを算出する施工誤差算出ステップと、を有する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
三次元位置座標を計測可能な測量計を用いることにより、 設計データで規定された設計面と、前記設計データに基づいて形成される実際の面との間の前記設計面の法線方向の施工誤差を求める方法であって、 前記測量計は、任意の着目位置に向けて計測用光を投光し、前記実際の面上において前記計測用光が当たる位置からの反射光を受光することで、前記当たる位置を計測位置としてその位置座標を出力するともに、出力された前記計測位置の位置座標を、前記設計面内の平面位置を規定する平面位置座標と、前記設計面の法線方向の位置を規定する法線位置座標とで示す機能を有し、 前記計測位置の平面位置座標と一致する前記設計面上の位置の位置座標を、前記設計データから取得する設計面位置座標取得ステップと、 前記計測位置の法線位置座標と、前記設計面位置座標取得ステップで取得した前記設計面上の位置の法線位置座標とに基づいて、前記施工誤差を算出する施工誤差算出ステップと、を有することを特徴とする施工誤差を求める方法。
IPC (1件):
G01C 15/00
FI (2件):
G01C15/00 103A ,  G01C15/00 103Z
引用特許:
審査官引用 (5件)
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