特許

J-GLOBAL ID：201303052467055575

基板処理方法及び基板処理装置

発明者： 今井 正芳 ,  宮崎 充
出願人/特許権者： 株式会社荏原製作所
代理人 (2件)： 渡邉 勇 ,  廣澤 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-046158
公開番号（公開出願番号）：特開2013-214737
出願日： 2013年03月08日
公開日（公表日）： 2013年10月17日
要約：

【課題】たとえ純水等の防食剤が含まれていない液体を使用した処理を行っても、空気中の酸素による銅腐食を抑制し、しかも基板表面のパーティクルの再付着を抑制できるようにする。【解決手段】基板Wの表面に液体Dを供給しながら、基板Wの表面に供給された液体Dの表面上に、該表面を覆って大気中の酸素から液体を遮断するガスGのカーテン(ガスカーテン)が形成されるように、基板Wの表面に向けてガスGを供給する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板表面に液体を供給しながら、基板表面に供給された液体の表面上に、該表面を覆って大気中の酸素を遮断するガスカーテンが形成されるように、基板表面に向けてガスを供給することを特徴とする基板処理方法。

IPC (1件)：

H01L 21/304

FI (2件)：

H01L21/304 643C ,  H01L21/304 648L

Fターム (25件)：

5F157AA35 ,  5F157AA96 ,  5F157AB02 ,  5F157AB16 ,  5F157AB33 ,  5F157AB48 ,  5F157AB90 ,  5F157AC01 ,  5F157AC56 ,  5F157BA07 ,  5F157BA14 ,  5F157BA31 ,  5F157BB23 ,  5F157BB32 ,  5F157BC16 ,  5F157BD25 ,  5F157BD26 ,  5F157BH21 ,  5F157CB03 ,  5F157CB13 ,  5F157CB14 ,  5F157CE61 ,  5F157CF30 ,  5F157DB51 ,  5F157DB57

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 基板洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-019751   出願人：株式会社カイジョー
• 超音波シャワー装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-019752   出願人：株式会社カイジョー
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-104734   出願人：大日本スクリーン製造株式会社