特許
J-GLOBAL ID：201303054450697126

微細構造形成用型および光学素子の製造方法

発明者：
尾▲崎▼ 元章

尾▲崎▼ 元章 について


出願人/特許権者：
オリンパス株式会社

オリンパス株式会社 について


代理人 (5件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  高柴 忠夫 ,  増井 裕士
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-203004
公開番号（公開出願番号）：特開2013-064836
出願日： 2011年09月16日
公開日（公表日）： 2013年04月11日
要約：
【課題】微細構造形成用型および光学素子の製造方法において、被加工体の表面形状が変化しても、被加工体の表面に反射防止構造を容易かつ迅速に形成することができるようにする。【解決手段】曲率を有する凹レンズ面1aを備えるレンズ本体1の凹レンズ面1aに凹凸形状の反射防止部を形成する微細構造形成用型5であって、反射防止部を転写する成形面部5aと、成形面部5aを湾曲可能に支持する基体部5と、基体部5を変形することにより成形面部5aを湾曲させる空洞部6、環状空洞部7、および流体供給部8と、を備える表面加工装置10を用いて、反射防止部を形成する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
曲率を有する表面を備える被加工体の前記表面に凹凸形状の微細構造を形成する微細構造形成用型であって、 前記微細構造を転写する成形面部と、 該成形面部を湾曲可能に支持する基体部と、 該基体部を変形することにより前記成形面部を湾曲させる型変形部と、を備える ことを特徴とする、微細構造形成用型。
IPC (4件)：
G02B 1/11 ,  B29C 59/02 ,  B29C 33/42 ,  B29C 43/18
FI (4件)：
G02B1/10 A ,  B29C59/02 B ,  B29C33/42 ,  B29C43/18
Fターム (62件)：
2K009AA01 ,  2K009DD15 ,  4F202AA44 ,  4F202AA45 ,  4F202AD05 ,  4F202AD20 ,  4F202AF01 ,  4F202AG05 ,  4F202AG19 ,  4F202AH73 ,  4F202AK04 ,  4F202AR02 ,  4F202AR12 ,  4F202CA09 ,  4F202CA19 ,  4F202CB01 ,  4F202CB29 ,  4F202CK19 ,  4F204AA44 ,  4F204AA45 ,  4F204AD05 ,  4F204AD20 ,  4F204AF01 ,  4F204AG05 ,  4F204AG19 ,  4F204AH73 ,  4F204AJ05 ,  4F204AK04 ,  4F204AR02 ,  4F204AR12 ,  4F204FA01 ,  4F204FB01 ,  4F204FB11 ,  4F204FN11 ,  4F204FN17 ,  4F204FQ15 ,  4F209AA44 ,  4F209AA45 ,  4F209AD05 ,  4F209AD20 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AG19 ,  4F209AG26 ,  4F209AH73 ,  4F209AJ05 ,  4F209AK04 ,  4F209AM01 ,  4F209AP02 ,  4F209AP06 ,  4F209AR02 ,  4F209AR12 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC05 ,  4F209PC06 ,  4F209PC07 ,  4F209PC08 ,  4F209PN06 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  4F209PQ20
引用特許：
審査官引用 (6件)
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