特許
J-GLOBAL ID：201303054497035547

医薬製造向け精製水製造装置及び方法

発明者：
池田 宏之

池田 宏之 について

, 
大澤 公伸

大澤 公伸 について

, 
植田 優介

植田 優介 について


出願人/特許権者：
栗田工業株式会社

栗田工業株式会社 について


代理人 (1件)： 重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-050548
公開番号（公開出願番号）：特開2013-184105
出願日： 2012年03月07日
公開日（公表日）： 2013年09月19日
要約：
【課題】医薬製造用精製水製造装置及び方法において、原水中から残留塩素を除去することにより、耐塩素性の低い逆浸透膜も使用できるようにすると共に、原水中から残留塩素を除去しても一般細菌の増殖が十分に抑制され、システム全体での温水・熱水殺菌の回数を減らすことができる医薬製造向け精製水装置及び方法を提供する。【解決手段】残留塩素を含む原水は、原水槽1から紫外線殺菌装置4に供給され、原水中の残留塩素濃度0.1mg/Lあたり30〜500Wh/m3の照射量にて紫外線が照射され、殺菌が行われると共に、残留塩素が分解される。逆浸透膜装置6に供給され、その透過水が電気脱イオン7に通水され、脱塩処理され、この脱塩処理水が精製水として取り出される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
残留塩素を含有する原水を処理して医薬製造向け精製水を製造する装置であって、 逆浸透膜装置と、逆浸透膜処理水が導入される電気脱イオン装置又はイオン交換樹脂塔とを有する精製水製造装置において、 該逆浸透膜装置の前段に、残留塩素含有原水に対し紫外線を該原水中の残留塩素濃度0.1mg/Lあたり30〜500Wh/m3の照射量にて照射する紫外線殺菌装置を設けたことを特徴とする精製水製造装置。
IPC (7件)：
C02F 1/32 ,  B01D 61/58 ,  B01D 61/44 ,  C02F 1/44 ,  C02F 9/00 ,  C02F 1/469 ,  C02F 1/42
FI (13件)：
C02F1/32 ,  B01D61/58 ,  B01D61/44 520 ,  C02F1/44 H ,  C02F9/00 502F ,  C02F9/00 502J ,  C02F9/00 502L ,  C02F9/00 502N ,  C02F9/00 503A ,  C02F9/00 504B ,  C02F1/46 103 ,  C02F9/00 504D ,  C02F1/42 A
Fターム (38件)：
4D006GA03 ,  4D006GA17 ,  4D006KA01 ,  4D006KA52 ,  4D006KA55 ,  4D006KA57 ,  4D006KA72 ,  4D006KB04 ,  4D006KB11 ,  4D006PA01 ,  4D006PB06 ,  4D006PB24 ,  4D006PC41 ,  4D025AA03 ,  4D025AB02 ,  4D025BA07 ,  4D025BB01 ,  4D025CA01 ,  4D025CA10 ,  4D025DA04 ,  4D025DA05 ,  4D025DA06 ,  4D037AA02 ,  4D037AB03 ,  4D037AB14 ,  4D037BA18 ,  4D037BB01 ,  4D037BB02 ,  4D037CA03 ,  4D037CA04 ,  4D037CA15 ,  4D061DA03 ,  4D061DB13 ,  4D061EA09 ,  4D061EB13 ,  4D061FA07 ,  4D061FA08 ,  4D061FA09
引用特許：
審査官引用 (8件)
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引用文献：
審査官引用 (1件)

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