試料の状態を評価するための装置及び方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-098040
公開番号（公開出願番号）：特開2013-156276
出願日： 2013年05月08日
公開日（公表日）： 2013年08月15日
要約：

【課題】ウェーハの表面状態、異物や欠陥から発生する反射光が、膜種や膜厚,表面粗さのヘイズ成分に畳重し、固定のしきい値では、正確なヘイズ成分の測定が困難であった。【解決手段】被検査体表面上のヘイズ成分を検出する際、前記被検査物体からの光を検出して電気信号に変換し、前記電気信号を所定のサンプリング時間間隔でサンプリングしてデジタルデータに変換し、前記デジタルデータから異物欠陥等に対応する周波数成分を分離して、表面に付着する染み,かすみ状の曇り,表面粗さ分布などに対応するヘイズ周波数成分を選択する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

試料に照明光を供給する照明光学系と、前記試料からの光を検出し、信号を出力する検出光学系と、を有し、前記検出光学系は、第1の信号を出力するための第1の光検出器、及び前記第1の光検出器とは異なる位置に配置された第2の信号を出力するための第2の光検出器を含み、さらに、処理部を有し、前記処理部は、前記第1の信号から第1の低周波数成分を得て、さらに前記第2の信号から第2の低周波数成分を得て、前記第1の低周波数成分と第1の値とを比較し、前記第2の低周波数成分と第2の値とを比較する試料の状態を評価するための装置。

IPC (2件)：

G01N 21/956 , G01B 11/30

FI (2件)：

G01N21/956 A , G01B11/30 A

Fターム (32件)：

2F065AA49 , 2F065BB03 , 2F065CC19 , 2F065FF44 , 2F065FF66 , 2F065FF67 , 2F065GG04 , 2F065HH04 , 2F065HH08 , 2F065HH12 , 2F065JJ01 , 2F065JJ05 , 2F065JJ08 , 2F065LL04 , 2F065MM03 , 2F065MM04 , 2F065PP12 , 2F065PP13 , 2F065QQ01 , 2F065QQ03 , 2F065QQ33 , 2F065QQ34 , 2G051AA51 , 2G051AB07 , 2G051BA10 , 2G051BA11 , 2G051BB01 , 2G051CA02 , 2G051DA08 , 2G051EA11 , 2G051EA23 , 2G051EC05

引用特許：

出願人引用 (1件)

特開昭63-143830号公報

審査官引用 (7件)

特開平4-159551
ウエハ異物の立体的マツプ表示方式
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-226585 出願人：日立電子エンジニアリング株式会社
表面検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-075562 出願人：テーイーテー・テクノ・インベストメント・トラスト・セトルメント

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