特許
J-GLOBAL ID:201303055567795036
組成物及び該組成物を用いたアンモニア製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (5件):
棚井 澄雄
, ▲廣▼保 直純
, 荒 則彦
, 加藤 広之
, 五十嵐 光永
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-262899
公開番号(公開出願番号):特開2013-111562
出願日: 2011年11月30日
公開日(公表日): 2013年06月10日
要約:
【課題】低圧条件下において高収率でアンモニアを製造できる組成物、及び該組成物を用いたアンモニア製造方法の提供。【解決手段】(1)ルテニウム、ルテニウムを含む合金又はルテニウムを含む化合物、(2)ランタノイドを含む化合物、並びに、(3)塩基性助触媒及び/又は多孔性金属錯体を配合した組成物;前記ランタノイドを含む化合物は、ランタノイド酸化物であることが好ましい;前記塩基性助触媒は、アルカリ金属酸化物、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属酸化物又はアルカリ土類金属水酸化物であることが好ましい;前記多孔性金属錯体が、亜鉛、銅、マグネシウム、アルミニウム、マンガン、鉄、コバルト及びニッケルからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属を有することが好ましい;前記組成物を触媒として用いて、窒素と水素とを反応させてアンモニアを製造する方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
(1)ルテニウム、ルテニウムを含む合金又はルテニウムを含む化合物、
(2)ランタノイドを含む化合物、並びに、
(3)塩基性助触媒及び/又は多孔性金属錯体
を配合した組成物。
IPC (4件):
B01J 23/63
, B01J 23/58
, B01J 23/89
, C01C 1/04
FI (4件):
B01J23/56 301M
, B01J23/58 M
, B01J23/89 M
, C01C1/04 E
Fターム (47件):
4G169AA02
, 4G169AA04
, 4G169AA08
, 4G169BA27A
, 4G169BA27B
, 4G169BA28B
, 4G169BB02A
, 4G169BB02B
, 4G169BB04A
, 4G169BB04B
, 4G169BB05A
, 4G169BB08B
, 4G169BB12B
, 4G169BC01A
, 4G169BC06A
, 4G169BC06B
, 4G169BC08A
, 4G169BC10A
, 4G169BC16A
, 4G169BC16B
, 4G169BC31A
, 4G169BC35A
, 4G169BC41A
, 4G169BC42A
, 4G169BC42B
, 4G169BC43A
, 4G169BC43B
, 4G169BC44A
, 4G169BC44B
, 4G169BC62A
, 4G169BC66A
, 4G169BC66B
, 4G169BC68A
, 4G169BC68B
, 4G169BC70A
, 4G169BC70B
, 4G169BE08B
, 4G169BE09B
, 4G169BE37B
, 4G169CB82
, 4G169DA06
, 4G169EB10
, 4G169FA01
, 4G169FB08
, 4G169FB14
, 4G169FB30
, 4G169FC02
引用特許:
引用文献:
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