特許
J-GLOBAL ID:201303056849001209

中性子線照射装置及び中性子線照射装置のメンテナンス方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 長谷川 芳樹 ,  黒木 義樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-150994
公開番号(公開出願番号):特開2013-019692
出願日: 2011年07月07日
公開日(公表日): 2013年01月31日
要約:
【課題】メンテナンス時に作業者が受ける放射線の影響を低減すると共に、減速体を設置する部屋の面積の増大を抑制することができる中性子線照射装置及び中性子線照射装置のメンテナンス方法を提供する。【解決手段】本発明は、照射室Rm内の被照射体に中性子線を照射する中性子線照射装置1であって、荷電粒子を加速して荷電粒子線Pを出射するサイクロトロン2と、荷電粒子線Pが照射されることで中性子線Nを発生させるターゲット3と、サイクロトロン2とターゲット3とを接続する真空ダクト4と、ターゲット3で発生した中性子線Nを減速させるモデレータ5と、を備え、ターゲット3は、モデレータ5から離間するように移動可能である。【選択図】図1
請求項(抜粋):
照射室内の被照射体に中性子線を照射する中性子線照射装置であって、 荷電粒子を加速して荷電粒子線を出射する加速器と、 前記荷電粒子線が照射されることで中性子線を発生させる中性子線発生部と、 前記加速器と前記中性子線発生部とを接続するダクトと、 前記中性子線発生部で発生した中性子線を減速させる減速体と、 を備え、 前記中性子線発生部は、前記減速体から離間するように移動可能であることを特徴とする中性子線照射装置。
IPC (6件):
G21K 5/08 ,  G21K 5/02 ,  H05H 3/06 ,  H05H 6/00 ,  H05H 7/12 ,  A61N 5/10
FI (6件):
G21K5/08 N ,  G21K5/02 N ,  H05H3/06 ,  H05H6/00 ,  H05H7/12 ,  A61N5/10 H
Fターム (12件):
2G085AA11 ,  2G085BA16 ,  2G085BA17 ,  2G085BD02 ,  2G085BE04 ,  2G085BE07 ,  2G085BE08 ,  2G085DA03 ,  4C082AA01 ,  4C082AC07 ,  4C082AE01 ,  4C082AG60
引用特許:
審査官引用 (5件)
  • 陽電子発生装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-063569   出願人:三菱電機株式会社
  • ターゲット回収装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2008-046633   出願人:住友重機械工業株式会社
  • 照射装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2000-121157   出願人:三菱重工業株式会社
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