特許
J-GLOBAL ID:201303057325063181
赤外線を用いたガラス及び/又はガラスセラミックを均一に加熱するための方法及び装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
村山 靖彦
, 志賀 正武
, 渡邊 隆
, 実広 信哉
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-606541
特許番号:特許第4707238号
出願日: 2000年03月22日
請求項(抜粋):
【請求項1】 赤外線を用いて半透明及び/又は透明なガラス及び/又はガラスセラミックの均一な加熱を行い、これにより、このガラス及び/又はガラスセラミックに、20°C〜3000°Cの領域での熱処理を施すガラス及び/又はガラスセラミックを均一に加熱するための方法であって、
前記ガラス及び/又は前記ガラスセラミックに直接的に作用する赤外線、及び、前記ガラス及び/又は前記ガラスセラミックに間接的に作用する赤外線によって前記加熱を行い、前記ガラス及び/又は前記ガラスセラミックに間接的に作用する光線の割合を、全放射出力の50%以上にし、
前記赤外線は、1500Kより大きい色温度を有し、
前記赤外線において、赤外線放射体から放射された全放射出力の平均して50%以上が少なくとも一度前記ガラスを通過し、
壁、床、及び前記赤外線放射体を備える天井により囲まれた空間内において実施され、前記赤外線放射体は前記ガラス及び/又は前記ガラスセラミックの上方に設けられ、
前記ガラス及び/又は前記ガラスセラミックに間接的に作用する赤外線は、その上に前記ガラス及び/又は前記ガラスセラミックを載置する支持体によって吸収され、熱に変換され、そして、前記支持体に熱的に接続された前記ガラス及び/又は前記ガラスセラミックに放熱される割合を含んでいることを特徴とするガラス及び/又はガラスセラミックを均一に加熱するための方法。
IPC (2件):
C03B 32/00 ( 200 6.01)
, C03B 32/02 ( 200 6.01)
FI (2件):
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (9件)
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光学ガラス素子の成形方法および装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-126786
出願人:東芝機械株式会社
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メタルハライドランプ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-154277
出願人:岩崎電気株式会社
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特開平3-023233
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特開昭56-011414
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レンズの製造方法及びレンズ成形用型組立体
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-191319
出願人:オリンパス光学工業株式会社
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特開平3-023233
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特開昭56-011414
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特開平3-023233
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特開昭56-011414
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