特許
J-GLOBAL ID：201303057547658400
酸素感応性膜形成用組成物及び酸素感応性膜
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
岡田 英彦
, 池田 敏行
, 岩田 哲幸
, 中村 敦子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-199434
公開番号（公開出願番号）：特開2003-012938
特許番号：特許第4972830号
出願日： 2001年06月29日
公開日（公表日）： 2003年01月15日
請求項（抜粋）：
【請求項1】酸素感応性膜形成用組成物であって、
酸素消光性分子と、
酸素透過性を有する膜を成膜可能な高分子化合物と、
シリカ粒子、とを含有するとともに、
前記シリカ粒子を、前記高分子化合物に対して10wt%〜15wt%含有させる組成物。
IPC (7件)：
C08L 101/00 ( 200 6.01)
, C08J 5/18 ( 200 6.01)
, C08K 3/34 ( 200 6.01)
, C08K 5/00 ( 200 6.01)
, C08L 83/04 ( 200 6.01)
, C08L 85/00 ( 200 6.01)
, G01L 5/00 ( 200 6.01)
C08L 101/00
, C08J 5/18 CEZ
, C08K 3/34
, C08K 5/00
, C08L 83/04
, C08L 85/00
, G01L 5/00 101 Z
