特許
J-GLOBAL ID：201303059584133883

パターン形成方法及びその方法に用いる架橋層形成用組成物

発明者：
中村 敦

中村 敦 について

, 
男谷 唯宏

男谷 唯宏 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (17件)： 蔵田 昌俊 ,  高倉 成男 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  福原 淑弘 ,  峰 隆司 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  幸長 保次郎 ,  河野 直樹 ,  砂川 克 ,  井関 守三 ,  佐藤 立志 ,  岡田 貴志 ,  堀内 美保子 ,  竹内 将訓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-242121
公開番号（公開出願番号）：特開2013-097295
出願日： 2011年11月04日
公開日（公表日）： 2013年05月20日
要約：
【課題】所望とする収縮率にて縮小化された微細パターンの形成を実現することが可能なパターン形成方法、及び、その方法において用いる架橋層形成用組成物を提供する。【解決手段】(ア)酸の作用により極性が増大する樹脂、および、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含む感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程、(イ)該膜を露光する工程、(ウ)露光した膜を有機溶剤を含む現像液を用いて現像し、ネガ型のパターンを形成する工程、及び、(エ)該パターンに、下記一般式(I)で表される繰り返し単位を含む樹脂と、架橋成分と、アルコール系溶剤を含有する組成物を塗布し、該パターンを構成する前記樹脂と架橋させて架橋層を形成する工程、を含むパターン形成方法。(式中、R1は、アルキル基、アルコキシ基、アルキルカルボニルオキシ基又はアルコキシカルボニル基を表す。)【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(ア)酸の作用により極性が増大する樹脂、および、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含む感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程、 (イ)該膜を露光する工程、 (ウ)露光した膜を有機溶剤を含む現像液を用いて現像し、ネガ型のパターンを形成する工程、及び (エ)該パターンに、下記一般式(I)で表される繰り返し単位を含む樹脂と、架橋成分と、アルコール系溶剤を含有する組成物を塗布し、該パターンを構成する前記樹脂と架橋させて架橋層を形成する工程、 を含むパターン形成方法。
IPC (6件)：
G03F 7/40 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/32 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/00
FI (6件)：
G03F7/40 511 ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/32 ,  H01L21/30 502R ,  C08F20/00 510
Fターム (36件)：
2H096AA25 ,  2H096BA06 ,  2H096EA05 ,  2H096GA03 ,  2H096HA05 ,  2H125AF17P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF45P ,  2H125AH12 ,  2H125AH14 ,  2H125AH15 ,  2H125AH19 ,  2H125AH22 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ63X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ66X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM66P ,  2H125AM99P ,  2H125AN36P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN65P ,  2H125AN86P ,  2H125BA01P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC01 ,  2H125CC15 ,  2H125FA05 ,  2H125FA07
引用特許：
審査官引用 (5件)
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