特許
J-GLOBAL ID：200903072810681213

微細パターン形成用樹脂組成物および微細パターン形成方法

発明者：
永井 智樹

永井 智樹 について


出願人/特許権者：
JSR株式会社

JSR株式会社 について


代理人 (1件)： 和気 操
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-251727
公開番号（公開出願番号）：特開2009-085989
出願日： 2007年09月27日
公開日（公表日）： 2009年04月23日
要約：
【課題】熱処理により、レジストパターンを円滑に収縮させることができると共に、その後のアルカリ水溶液処理により容易に除去し得る。【解決手段】樹脂と、この樹脂を架橋させる架橋成分と、溶媒とを含み、レジストパターンを微細化するための微細パターン形成用樹脂組成物であって、上記樹脂が下記式(1)で表される繰り返し単位(I)を含有することを特徴とする。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
樹脂と、この樹脂を架橋させる架橋成分と、溶媒とを含み、レジストパターンを微細化するための微細パターン形成用樹脂組成物であって、 前記樹脂が下記式(1)で表される繰り返し単位(I)を含有することを特徴とする微細パターン形成用樹脂組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/40 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/54 ,  C08F 212/06
FI (4件)：
G03F7/40 511 ,  H01L21/30 570 ,  C08F20/54 ,  C08F212/06
Fターム (36件)：
2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096EA02 ,  2H096EA03 ,  2H096EA05 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01 ,  2H096HA02 ,  2H096HA05 ,  2H096JA04 ,  2H096KA03 ,  2H096KA05 ,  2H096KA12 ,  2H096KA14 ,  4J002BG121 ,  4J002BG131 ,  4J002FD146 ,  4J002GQ00 ,  4J002GQ05 ,  4J002HA03 ,  4J100AB02R ,  4J100AB07Q ,  4J100AB07R ,  4J100AM15P ,  4J100AM17P ,  4J100AM19P ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA04P ,  4J100BA04R ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100JA38 ,  5F046LA18
引用特許：
出願人引用 (9件)
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