特許
J-GLOBAL ID:201303061398167810

多層エレメントの製造方法及び多層エレメント

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西脇 民雄
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-519921
公開番号(公開出願番号):特表2012-533760
出願日: 2010年07月13日
公開日(公表日): 2012年12月27日
要約:
本発明は、多層エレメント(100)の製造方法と、該方法を用いて形成される多層エレメント(100)とに関する。加飾層(3)が、キャリア層(1)の上または中に形成される。該加飾層(3)は、第一の領域(8)と第二の領域(9)とを有する。キャリア層(1)の平面に垂直に観察される場合、第一の領域(8)において第一の透過率を、第二の領域(9)において第一の透過率より大きい第二の透過率を有する。構造化される層(5)及び光活性化可能なレジスト層が、キャリア層(1)の第一の側(11)に配置される。加飾層(3)は、レジスト層が加飾層(3)を通じて露光される場合、露光マスクとして用いられる。少なくとも一つの構造化される層(5)及びレジスト層は、同期した構造化プロセスを用いて、一致した配置状態で構造化される。【選択図】図8a
請求項(抜粋):
多層エレメント(100)の製造方法であって、 a)第一の側(11)及び第二の側(12)を有するキャリア積層(1)に接して及び/または中に、第一の領域(8)及び第二の領域(9)を有する単一のまたは多層の加飾積層(3)が形成され、前記加飾積層(3)が、前記キャリア積層(1)の面に垂直に観察される場合、前記第一の領域(8)において第一の透過率を、前記第二の領域(9)において前記第一の透過率に比べて大きい第二の透過率を有し、該透過率が、光活性化に適した波長を有する電磁放射線(7)に関連し、 b)少なくとも一つの構造化される層(5)が、前記キャリア積層(1)の前記第一の側(11)に配置され、 c)該電磁放射線(7)により光活性化可能なレジスト層(6)が、前記レジスト層(6)が前記少なくとも一つの構造化される層(5)の前記キャリア積層(1)から離れた側に配置され、前記加飾積層(3)が前記少なくとも一つの構造化される層(5)の他の側に配置されるように、前記キャリア積層(1)の前記第一の側(11)に配置され、 d)前記レジスト層(6)が、該電磁放射線(7)により、前記キャリア層(1)の前記第二の側(12)から露光され、前記加飾積層(3)が、前記第一の領域(8)及び前記第二の領域(9)のデザインにより、露光マスクとして機能し、 e)前記少なくとも一つの構造化される層(5)及び前記レジスト層(6)が、互いに同期した構造化工程により、互いに一致した配置状態で構造化される、 多層エレメント(100)の製造方法。
IPC (5件):
G02B 5/18 ,  G03F 7/004 ,  B42D 15/10 ,  G02B 5/32 ,  B32B 7/02
FI (7件):
G02B5/18 ,  G03F7/004 511 ,  B42D15/10 501P ,  B42D15/10 531B ,  B42D15/10 501Z ,  G02B5/32 ,  B32B7/02 103
Fターム (57件):
2C005HA04 ,  2C005HB01 ,  2C005HB09 ,  2C005HB10 ,  2C005HB20 ,  2C005JB14 ,  2C005KA02 ,  2C005KA05 ,  2C005KA48 ,  2C005KA51 ,  2C005KA59 ,  2C005KA61 ,  2H125CA30 ,  2H125CD20P ,  2H125CD31 ,  2H249AA13 ,  2H249AA60 ,  2H249AA64 ,  2H249CA05 ,  2H249CA22 ,  2H249CA28 ,  4F100AB01C ,  4F100AK01C ,  4F100AR00D ,  4F100AR00E ,  4F100AS00C ,  4F100AT00A ,  4F100AT00C ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100BA10D ,  4F100BA42B ,  4F100BA42C ,  4F100BA42D ,  4F100CA13B ,  4F100DD01A ,  4F100EH46B ,  4F100EH46E ,  4F100GB71 ,  4F100GB90 ,  4F100HB00B ,  4F100JD08A ,  4F100JD08B ,  4F100JD08E ,  4F100JK06E ,  4F100JL10B ,  4F100JL14E ,  4F100JM02C ,  4F100JN01B ,  4F100JN02D ,  4F100JN30D ,  4F100YY00B ,  4F100YY00C ,  4F100YY00D
引用特許:
審査官引用 (6件)
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