適応光学系を有する顕微鏡検査法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石川徹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-519780
公開番号（公開出願番号）：特表2012-533069
出願日： 2010年07月09日
公開日（公表日）： 2012年12月20日
要約：

光学系の後瞳がセグメント化され、該セグメントが波面変調デバイスによって個々に制御され、光学系内の励起または放射ビームの個々のビームレットの方向および位相を制御して、サンプルおよびシステムによって誘導される収差に対する適応光学系補正を提供する顕微鏡検査技術。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

サンプルの画像を形成する方法であって、前記サンプル内の焦点に、ビームの断面が個々のビームレットを含む励起光ビームを収束させるステップと、前記サンプル内の複数の異なる位置で前記焦点を走査するステップと、前記焦点が前記複数の異なる位置にあるときに前記個々のビームレットの角度を個々に制御するステップと、前記焦点が前記複数の異なる位置にあるときに前記個々のビームレットの相対位相を個々に制御するステップと、前記焦点が前記複数の異なる位置にあるときに前記焦点から放射された放射光を検出するステップと、前記焦点の複数の異なる位置から前記検出された放射光に基づいて前記サンプルの画像を作成するステップと、を備える、方法。

IPC (4件)：

G01N 21/64 , G01N 21/17 , G02B 21/06 , G02B 21/36

FI (4件)：

G01N21/64 F , G01N21/17 A , G02B21/06 , G02B21/36

Fターム (32件)：

2G043AA03 , 2G043BA16 , 2G043CA07 , 2G043EA01 , 2G043FA01 , 2G043GA02 , 2G043GB01 , 2G043HA01 , 2G043HA02 , 2G043HA06 , 2G043HA15 , 2G043JA03 , 2G043LA03 , 2G059AA05 , 2G059BB10 , 2G059BB14 , 2G059EE07 , 2G059FF01 , 2G059JJ03 , 2G059JJ11 , 2G059JJ13 , 2G059JJ15 , 2G059JJ18 , 2G059JJ30 , 2G059KK04 , 2G059NN06 , 2H052AA08 , 2H052AB06 , 2H052AC15 , 2H052AC18 , 2H052AC27 , 2H052AF14

引用特許：

審査官引用 (6件)

顕微鏡におけるアダプティブ光学装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-214675 出願人：カールツァイスイエナゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
適応光学装置を有する顕微鏡、特にレーザ走査型顕微鏡
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-147210 出願人：カールツァイスイエナゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
共焦点光学系
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-230369 出願人：株式会社大阪光科学技術研究所

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