特許
J-GLOBAL ID：201303067244461455

マスク及びそれに使用するマスク用部材

発明者：
梶山 康一

梶山 康一 について

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水村 通伸

水村 通伸 について

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工藤 修二

工藤 修二 について

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木村 江梨子

木村 江梨子 について


出願人/特許権者：
株式会社ブイ・テクノロジー

株式会社ブイ・テクノロジー について


代理人 (6件)： 笹島 富二雄 ,  西山 春之 ,  奥山 尚一 ,  小川 護晃 ,  荒木 邦夫 ,  梶 大樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-221883
公開番号（公開出願番号）：特開2013-083704
出願日： 2011年10月06日
公開日（公表日）： 2013年05月09日
要約：
【課題】高精細な薄膜パターンの形成を可能にする。【解決手段】基板上に一定形状の薄膜パターンを形成するためのマスク1であって、可視光を透過する樹脂製のフィルム2と、前記基板上に予め定められた薄膜パターン形成領域に対応して前記薄膜パターンよりも形状の大きい貫通する開口部5を形成した板体で構成され、前記フィルム2を保持する保持部材3と、備え、前記フィルム2は、前記基板上の前記薄膜パターン形成領域に対応して前記保持部材3の前記開口部5内に前記薄膜パターンと同形状の開口パターン4を備えている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板上に一定形状の薄膜パターンを形成するためのマスクであって、 可視光を透過する樹脂製のフィルムと、 前記基板上に予め定められた薄膜パターン形成領域に対応して前記薄膜パターンよりも形状の大きい貫通する開口部を形成した板体で構成され、前記フィルムを保持する保持部材と、 を備え、 前記フィルムは、前記基板上の前記薄膜パターン形成領域に対応して前記保持部材の前記開口部内に前記薄膜パターンと同形状の開口パターンを備えていることを特徴とするマスク。
IPC (2件)：
G03F 1/68 ,  G03F 7/20
FI (2件)：
G03F1/08 A ,  G03F7/20 501
Fターム (7件)：
2H095BB01 ,  2H095BB08 ,  2H095BB14 ,  2H095BC27 ,  2H095BC30 ,  2H097JA02 ,  2H097LA13
引用特許：
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (10件)
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