パターン形成方法

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (17件)：蔵田昌俊 , 高倉成男 , 河野哲 , 中村誠 , 福原淑弘 , 峰隆司 , 白根俊郎 , 村松貞男 , 野河信久 , 幸長保次郎 , 河野直樹 , 砂川克 , 井関守三 , 佐藤立志 , 岡田貴志 , 堀内美保子 , 竹内将訓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-209850
公開番号（公開出願番号）：特開2013-072896
出願日： 2011年09月26日
公開日（公表日）： 2013年04月22日
要約：

【課題】ブロックコポリマーのミクロ相分離を利用したパターン形成方法において、ブロックコポリマーの配向を容易に制御でき、より短時間で微細なパターンを形成できる方法を提供する。【解決手段】実施形態のパターン形成方法は、基板11上に熱架橋性分子を塗布し熱架橋性分子層12を形成する工程と、前記熱架橋性分子層12上に感光性ポリマーを塗布して感光性ポリマー層17を形成する工程と、前記熱架橋性分子層12と前記感光性ポリマー層17とを加熱による架橋反応により接着する工程と、前記感光性ポリマー層17を選択的に露光することにより、露光部および未露光部の感光性ポリマーパターンを形成する工程と、前記感光性ポリマー層17上に、第1および第2のブロック鎖を含むブロックコポリマー層14を形成し、前記ブロックコポリマー層をミクロ相分離させ、前記ポリマー層13の表面エネルギーに基づいて前記第1および第2のブロック鎖のパターンを形成する工程と、を有することを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板上に熱架橋性分子を塗布し熱架橋性分子層を形成する工程と、前記熱架橋性分子層上に感光性ポリマーを塗布し感光性ポリマー層を形成する工程と、前記熱架橋性分子層と前記感光性ポリマー層とを加熱による架橋反応により接着する工程と、前記感光性ポリマー層を選択的に露光することにより、露光部および未露光部の感光性ポリマーパターンを形成する工程と、前記感光性ポリマー層上に、第1および第2のブロック鎖を含むブロックコポリマー層を形成する工程と、前記ブロックコポリマー層をミクロ相分離させ、前記感光性ポリマー層の表面エネルギーに基づいて前記第1および第2のブロック鎖のパターンを形成する工程と、を含むことを特徴とするパターン形成方法。

IPC (4件)：

G03F 7/11 , G03F 7/26 , G03F 7/36 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/11 503 , G03F7/26 511 , G03F7/36 , H01L21/30 502R

Fターム (26件)：

2H096AA25 , 2H096BA20 , 2H096CA05 , 2H096DA01 , 2H096HA30 , 2H096KA02 , 2H096KA30 , 2H125AF17P , 2H125AF35P , 2H125AH12 , 2H125AJ13Y , 2H125AJ44Y , 2H125AM13P , 2H125AM24P , 2H125AN39P , 2H125AN61N , 2H125AN71N , 2H125AN78N , 2H125BA05N , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC07 , 2H125CC15 , 2H125DA27 , 2H125DA30 , 2H125FA05

引用特許：

審査官引用 (4件)

下層組成物および下層を像形成する方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-213653 出願人：ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー., ダウグローバルテクノロジーズエルエルシー
ブロックコポリマーの自己組織化促進方法及びそれを用いたブロックコポリマーの自己組織化パターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-289806 出願人：パナソニック株式会社
微細パターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-310857 出願人：三星電子株式会社

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