特許
J-GLOBAL ID：201303074238113778

フォトレジスト用共重合体およびその製造方法

発明者：
川島 敬史

川島 敬史 について

, 
山田 悟

山田 悟 について

, 
霜山 達也

霜山 達也 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-200225
公開番号（公開出願番号）：特開2013-060537
出願日： 2011年09月14日
公開日（公表日）： 2013年04月04日
要約：
【課題】未露光残膜率が高く、比誘電率が低く、ドライエッチング耐性に優れ、かつ、ITOスパッタ耐性にも優れたフォトレジスト用感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】(i)酸不安定基を有するラジカル重合性化合物、および、(ii)一般式(1)で表される不飽和カルボン酸エステルを含むラジカル重合性化合物を共重合させて得られるフォトレジスト用共重合体において、主鎖末端に芳香族基を含む基を含む構造とする。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(i)酸不安定基を有するラジカル重合性化合物、および、(ii)一般式(1)で表される不飽和カルボン酸エステルを含むラジカル重合性化合物を共重合させて得られるフォトレジスト用共重合体であって、該共重合体の主鎖末端のうち少なくとも1つが一般式(2)で表される基である、フォトレジスト用共重合体。 一般式(1)
IPC (3件)：
C08F 220/18 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/40
FI (3件)：
C08F220/18 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/40 501
Fターム (62件)：
2H096AA28 ,  2H096BA11 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01 ,  2H096JA04 ,  2H125AE12P ,  2H125AE13P ,  2H125AE14P ,  2H125AE18P ,  2H125AF52P ,  2H125AH05 ,  2H125AH06 ,  2H125AH12 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ42Y ,  2H125AJ44Y ,  2H125AJ63X ,  2H125AJ63Y ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ64Y ,  2H125AJ66X ,  2H125AN29P ,  2H125AN31P ,  2H125AN36P ,  2H125AN39P ,  2H125BA11P ,  2H125CA22 ,  2H125CA24 ,  2H125CB02 ,  2H125CB03 ,  2H125CB05 ,  2H125CB06 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125CD08P ,  2H125CD37 ,  2H125EA01P ,  4J100AB02S ,  4J100AB15S ,  4J100AJ02R ,  4J100AL03P ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL09Q ,  4J100AL09R ,  4J100AL11Q ,  4J100BA02S ,  4J100BA06P ,  4J100BC43R ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100BC54Q ,  4J100BC54S ,  4J100CA03 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (4件)
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