特許
J-GLOBAL ID：200903034604976003

フォトレジスト用高分子化合物、及びフォトレジスト組成物

発明者：
新井 隆

新井 隆 について


出願人/特許権者：
ダイセル化学工業株式会社

ダイセル化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 後藤 幸久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-209287
公開番号（公開出願番号）：特開2002-020424
出願日： 2000年07月11日
公開日（公表日）： 2002年01月23日
要約：
【要約】【課題】 アルカリ可溶性や基板密着性等のレジスト特性、特に基板密着性に優れたフォトレジスト用高分子化合物を得る。【解決手段】 フォトレジスト用高分子化合物は、分子内に酸素原子含有基又は置換若しくは無置換アミノ基を有する重合開始剤を用いた重合反応により得られるビニル重合体からなる。前記重合開始剤として、例えばアゾ系ラジカル重合開始剤を使用できる。前記酸素原子含有基として、例えば、ヒドロキシル基、カルボキシル基、置換オキシ基、置換オキシカルボニル基、アシル基、置換又は無置換カルバモイル基、ヒドロキシイミノ基、置換オキシイミノ基、ニトロ基などが挙げられる。また、前記ビニル重合体として、例えば、(メタ)アクリル系モノマーの単独若しくは共重合体又は(メタ)アクリル系モノマーと他のモノマーとの共重合体が挙げられる。
請求項（抜粋）：
分子内に酸素原子含有基又は置換若しくは無置換アミノ基を有する重合開始剤を用いた重合反応により得られるビニル重合体からなるフォトレジスト用高分子化合物。
IPC (4件)：
C08F 20/00 ,  C08F 4/04 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
C08F 20/00 ,  C08F 4/04 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (28件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  4J015AA01 ,  4J015AA04 ,  4J015AA06 ,  4J015AA07 ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL16P ,  4J100BA03P ,  4J100BA16P ,  4J100BC09P ,  4J100CA01 ,  4J100CA03 ,  4J100CA04 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (15件)
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審査官引用 (15件)
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