特許

J-GLOBAL ID：201303074261679827

基板処理装置及び基板処理方法

発明者： 長峰 秀一 ,  橋本 佑介
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-233159
公開番号（公開出願番号）：特開2013-093380
出願日： 2011年10月24日
公開日（公表日）： 2013年05月16日
要約：

【課題】基板を液層に浸漬して洗浄した後、回転して液膜処理することが可能な基板処理装置を提供する。【解決手段】液体を貯留し、液層を形成する貯留槽と、基板を回転可能に水平に支持し、前記貯留槽に対する離間距離を増減可能な基板支持部と、前記貯留槽の外周側に設けられ、前記基板支持部が前記貯留槽から離間した位置において前記基板を回転することにより前記基板から振り払われる液体を受けるカップ部とを備える基板処理装置により上記の課題が達成される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

液体を貯留し、液層を形成する貯留槽と、 基板を回転可能に水平に支持し、前記貯留槽に対する離間距離を増減可能な基板支持部と、 前記貯留槽の外周側に設けられ、前記基板支持部が前記貯留槽から離間した位置において前記基板を回転することにより前記基板から振り払われる液体を受けるカップ部と を備える基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

H01L21/304 642E ,  H01L21/304 643A ,  H01L21/304 643D ,  H01L21/30 572B

Fターム (13件)：

5F146MA18 ,  5F157AA64 ,  5F157AB02 ,  5F157AB90 ,  5F157AC26 ,  5F157BB02 ,  5F157BB22 ,  5F157BB66 ,  5F157BB73 ,  5F157BH18 ,  5F157CB01 ,  5F157CB13 ,  5F157DB02

引用特許：

審査官引用 (4件)

• リフトオフ装置およびリフトオフ処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-257540   出願人：株式会社ソフ.エンジニアリング
• 基板の処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-170307   出願人：芝浦メカトロニクス株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-066876   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開平4-357836